ウェーハ製造プロセスにおける炭素排出量の削減：IR加熱の真実 正直に言って、半導体製造装置は莫大なエネルギーを消費します。ウェーハ製造プロセスにおける炭素排出量を見ると、最も多くのエネルギーが無駄になっているのは、加熱に関連する部分です。長年にわたり、私たちは真空チャンバー全体を巨大なオーブンのよ...

MEMSセンサーワイホールをより効率的に乾燥させる方法 もし、これまでMEMSセンサーワイホールの処理を経験したことがあるなら、その難しさはご存知でしょう。水を素早く除去する必要がありますが、水滴や熱ストレスによってワイホールが損傷してしまっては元も子もありません。 長年にわたり、対流式オーブンが...

赤外線とホットエア：ウェーハを加熱するためのより良い方法は？ もし今もホットエアを使ってウェーハを加熱しているのであれば、それは単に待つしかない状態です。その理由は以下の通りです。ホットエアは対流によって熱を伝えます。つまり、まず空気を加熱し、その後で空気がウェーハを加熱するのです。これは中間者が...

スマートファブで効果的な赤外線加熱を実現するには インダストリー4.0向けのスマートファブを構築する場合、熱の扱い方を再考する必要があります。従来の抵抗式ヒーターでは不十分です。速度が遅すぎるのです。現代のウェーハ処理においては、即座に熱を供給できる装置が必要です。 だからこそ、私たちは赤外線シス...

なぜ、私たちはIRセンサーの絶縁性能テストにこだわるのか？ ウェーハの製造においては、そのリスクは非常に高い。わずかな電気的漏れがあっただけで、そのロット全体が廃棄されてしまうのです。 だからこそ、私たちは「サンプル検査」を行わないのです。数個のセンサーだけをテストして、うまくいくことを願うのでは...

なぜ赤外線硬化が半導体製造の標準となっているのか 私たちがウェーハ硬化用ランプ用の反射器を開発するのは、率直に言えば、半導体業界には正確でクリーンな乾燥処理が必要だからです。赤外線硬化は、無鉛で省エネルギー的な製造プロセスとして、標準的な手法となっています。その理由は、熱を必要な場所にだけ集中させ...

200mmウェーハの処理において、1回の湿式処理だけで生産性が損なわれることがあります。洗浄後に残った水分はフォトレジスト上に水痕として現れ、その後の軟質ベイク処理によって重要な寸法制御が不安定になります。これはオペレーターの手動調整では対処できず、シフトを重ねても同じように機能する乾燥モジュール...