製造現場では、2℃程度のわずかな温度変動だけでもフォトレジストの特性が変化してしまいます。また、エッジ部分で過度に高温になると、汚れが残ってしまうことがあります。IC用の小型赤外線乾燥機は、単なる便利な装置ではなく、工程の重要な要素です。私たちは、リソグラフィーやパッケージング工程において熱履歴の再現性を保つためにこの装置を開発しました。なぜなら、この業界では、1枚1枚のウェーハが非常に重要だからです。
内部構造が重要な理由 私たちは、高速かつ均一な加熱が可能な近赤外線発振器を使用しています。ウェーハ全体の温度のばらつきは±0.1℃以内に抑えられ、設定温度の再現性も±0.5℃以内です。そのため、ロットごとにフォトレジストの加熱プロファイルが安定して保たれます。この乾燥機は、クラス1～100のクリーンルームで使用でき、粒子をコントロールした空気供給系と、粒子を発生させない素材が採用されています。24時間365日の運転に適しており、MTBFは20,000時間以上で、パイロット運用時には停止が一切ありません。サイズは300mm×200mm×150mmで、24VDCまたは48VDCで動作し、既存の配線に簡単に接続できます。
なぜこれが効果的なのか 迅速かつ過剰な加熱がないように、迅速に反応する熱が必要です。近赤外線を利用することで、迅速な加熱が可能であり、かつ厳密なフィードバック制御が実現されます。その結果、加熱時間が短縮され、処理速度が向上します。また、発振器がウェーハや基板に直接当たるため、エネルギー消費も減少します。フォトレジスト処理では、これにより寸法の精度が向上し、再加工の回数が減ります。パッケージングでは、アンダーフィルを乾燥させ、歪みを防ぎながら水分を除去できます。クリーンルームとの互換性も高く、粒子数を抑えることができます。これは、先端ノードで求められる要件です。
実用的なポイント 乾燥機には、安定した電源と、光学窓を清潔に保つためのクリーンで乾燥した空気供給系が必要です。暖機時間は短いですが、10分間の安定化時間が経過してから加熱を開始する必要があります。サイズは小さいですが、安全装置や排気のために、発振器周辺には十分なスペースが必要です。発振器のスペクトラムは、使用するフォトレジストや基板の特性に合わせて選ぶ必要があります。当社のアプリケーションチームが、お客様の工程に合った最適な設定を行います。