リソグラフィーの工程では、ご存知の通り、わずか1～2度の温度変動でも、重要な寸法管理が崩れてしまいます。また、スカムが発生することもありますが、そんな時には誰も対処する時間がありません。一方で、ウェーハは次々と処理されていき、時間が経つにつれて熱量が消費されていきます。私たちは、このような状況を解決するために、特殊なフォトレジスト加熱ランプを開発しました。
技術的に重要な点 私たちは、NIR光を放出する短波長のハロゲンクォーツランプを使用しています。これにより、エネルギーが直接フォトレジストに届きます。その結果、数秒以内で温度が上昇し、熱量の制御も正確に行えます。また、300mmサイズのウェーハ全体で±0.1℃以内の均一性が保たれます。このシステムはクラス1～100の清浄室で動作し、インサイトモニタリングや密封構造により、粒子の混入を防ぎます。再現性も高く、ロットやシフト、ランプの寿命に関係なく安定しています。大量生産ラインでは、24時間365日稼働させても、計画外の停止はありません。
ソフトベイクでもハードベイクでも効果的な理由は簡単です。温度の精度がフォトレジストの特性や接着性、エッチング時の選択性を決定します。また、ランプによって加熱時間が短縮されるため、キューイングによる欠陥が減少し、線幅も安定します。エネルギーの消耗も少なくなります。なぜなら、熱がべきな場所、つまりフォトレジストに届くからです。また、ランプの構造により、ホットスポットやそれに伴う熱ストレスが回避されるため、メンテナンス間隔も長くなります。その結果、歩留まりが向上し、再作業の必要が減り、工程のスケジュールも計画しやすくなります。
注意すべき点として、これらのランプは、クォーツ製のケースに結露が生じないように、清潔で乾燥した空気や窒素を用いて purgingする必要があります。また、標準的なOEM装置とも接続可能ですが、チャックやベイクステーションの熱特性に合わせて設定する必要があります。評価時には、均一性を確保するために、短時間での熱平衡調整が必要です。