Pada line 200mm, satu langkah pembersihan yang tidak sempurna boleh merosakkan kualiti hasil pengeluaran. Air yang tertinggal selepas proses...

Di bilik pengeluaran, anda pasti tahu prosedurnya: perubahan suhu sebanyak 0.2°C sahaja sudah cukup untuk merosakkan kualiti permukaan wafer...