Di bilik pengeluaran, anda pasti tahu prosedurnya: perubahan suhu sebanyak 0.2°C sahaja sudah cukup untuk merosakkan kualiti permukaan wafer tersebut. Kaedah pemanasan konvensional tidak mampu mengatasi masalah ketidakkonsistenan suhu di permukaan wafer, jadi anda perlu memantau suhu dengan lebih teliti. Kami telah mencipta modul pemanasan inframerah berzon agar variasi suhu dapat dikurangkan, terutamanya pada bahagian wafer itu sendiri.
Apa yang penting dalam modul ini
Penggunaan gelombang inframerah pendek dengan kawalan berzon yang efektif membolehkan suhu permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Suhu dapat dicapai dalam masa beberapa saat sahaja, sehingga masa yang diperlukan untuk proses pemanasan berkurangan. Modul ini boleh digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa penghasilan zarah-zarah berbahaya. Masa operasinya adalah 24/7, dengan jangka hayat yang sesuai dengan standard peralatan semikonduktor.
Mengapa ia berkesan dalam proses litografi? Kerana konsistensi suhu semasa proses pemanasan mempengaruhi kualiti wafer. Dengan sistem pemanasan berzon, variasi suhu dapat dikurangkan, sehingga kualiti wafer kekal konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Ini bermakna kurangnya keperluan untuk melakukan ulangan proses, kurangnya pembaziran bahan, dan kualiti wafer tetap stabil. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana modul ini hanya memanaskan kawasan yang diperlukan sahaja.
Untuk pemasangan, diperlukan permukaan yang rata dan bersih, serta ruang yang cukup untuk penempatan elemen pemanas inframerah. Kit pemasangan tersedia untuk platform yang biasa digunakan, namun reka bentuk mekanikalnya berbeza-beza bergantung pada platform tersebut. Untuk mencapai tahap konsistensi suhu ±0.1°C, modul ini perlu dikalibrasikan mengikut profil suhu resistan yang digunakan. Setelah dikalibrasikan, proses pengeluaran akan tetap konsisten. Namun, jika bahan resistan diubah, perlu dilakukan penilaian semula terhadap modul tersebut.