Hãy ngừng lãng phí nhiệt năng: Tại sao các tấm phản quang được phủ bằng vàng lại quan trọng trong quá trình sản xuất wafer
Trong nhà máy sản xuất wafer, việc lãng phí năng lượng chẳng khác gì việc lãng phí thời gian. Không có gì đáng bực mình hơn khi đã tiêu tốn rất nhiều năng lượng để xử lý wafer, nhưng lại có một nửa năng lượng hồng ngoại bị lãng phí do chảy vào vỏ máy. Đó là sự lãng phí hoàn toàn vô ích.
Đó chính là lý do tại sao chúng ta sử dụng các tấm phản quang được phủ bằng vàng. Thay vì để nhiệt năng thoát ra ngoài, chúng ta buộc nhiệt năng đó quay trở lại vật liệu cần được xử lý.
Ưu điểm của việc sử dụng vàng
Hầu hết mọi người thường bắt đầu bằng việc sử dụng các tấm phản quang bằng nhôm, nhưng chúng thường mất hiệu quả ở những bước sóng cần thiết để xử lý wafer một cách hiệu quả. Vàng thì khác – nó có khả năng phản xạ lại hơn 98% bức xạ hồng ngoại.
Bằng cách phủ một lớp vàng mỏng lên vỏ máy hoặc lớp bảo vệ quartz, chúng ta có thể tập trung năng lượng lại. Nhờ đó, mật độ năng lượng trên wafer tăng lên đáng kể, mà không cần phải tăng công suất máy. Chi phí điện cũng giảm xuống, và tốc độ xử lý wafer vẫn cao. Đó là một giải pháp tuyệt vời.
Làm thế nào để sử dụng chúng một cách hiệu quả
Bí quyết nằm ở việc điều chỉnh góc chiếu sáng, và điều này phụ thuộc vào thiết kế của bóng đèn. Chúng tôi thiết kế những bóng đèn này để có thể tập trung năng lượng một cách hiệu quả, giúp cho nhiệt độ trên toàn bộ wafer đều nhau. Không có điểm lạnh nào xảy ra.
Nhưng có một điểm cần lưu ý: vàng rất nhạy cảm với bụi bẩn. Chỉ cần một dấu vân tay hay vết dầu nhỏ trên bề mặt tấm phản quang cũng có thể làm giảm hiệu quả của nó, tạo ra các điểm lạnh trên wafer. Bạn cần duy trì môi trường sạch sẽ, nếu không bạn sẽ lãng phí thời gian của mình.
Làm thế nào để sử dụng chúng trong hệ thống của bạn
Chúng tôi thiết kế những bóng đèn này để có thể thay thế cho các bộ phận phản quang thông thường. Chúng có thể được kết nối trực tiếp với các bộ điều khiển hiện có của bạn.
Nhưng cần lưu ý rằng môi trường nhiệt độ sẽ thay đổi. Vì vàng tập trung năng lượng một cách mạnh mẽ, nên nếu wafer không nằm chính xác tại điểm tập trung năng lượng, nó có thể bị quá nhiệt. Bạn cần dành thời gian để điều chỉnh độ cao của trục Z sao cho wafer không bị quá nhiệt. Đó là một sự hy sinh cần được chấp nhận để có được hiệu quả tốt hơn.