Di bilik litografi, anda tahu bagaimana prosesnya berlangsung. Suhu yang tidak konsisten boleh menyebabkan masalah dalam kawalan dimensi kritikal bahan tersebut. Selain itu, timbunan kotoran juga akan muncul, dan tiada siapa yang mempunyai masa untuk menanganinya. Sementara itu, wafer-wafer terus berbaris, dan tenaga haba yang digunakan semakin meningkat seiring berjalannya waktu. Kami telah mencipta lampu pemanas khusus untuk mengelakkan situasi seperti ini.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kami menggunakan lampu halogen kuarsa berfrekuensi rendah yang memancarkan cahaya NIR, sehingga tenaga dapat disalurkan terus ke bahan fotoresist. Dengan cara ini, suhu dapat dikawal dengan tepat, dan keseragaman suhu pada wafer dapat dicapai pada tahap ±0.1°C dalam jarak 300 mm. Sistem ini beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa adanya zarah-zarah berbahaya—berkat sistem pemantauan yang canggih serta reka bentuk yang kedap udara. Keseragaman hasil pengeluaran tetap terjaga, walaupun melibatkan pelbagai jenis wafer atau lampu yang berbeza usianya. Dalam proses pengeluaran berskala besar, sistem ini dapat beroperasi 24/7 tanpa gangguan.
Alasan mengapa cara ini berkesan adalah kerana ketepatan suhu menentukan sifat bahan fotoresist, daya lekatnya, serta kemampuan bahan tersebut untuk diolah. Lampu-lampu ini membantu mengurangkan masa pemanasan, sehingga kecacatan akibat barisan wafer yang panjang dapat dikurangkan, dan lebar jalur pengeluaran tetap stabil. Penggunaan tenaga juga berkurangan, kerana haba disalurkan ke tempat yang sepatutnya—ke bahan fotoresist—bukan untuk memanaskan ruang pengeluaran. Jarak waktu penyelenggaraan juga bertambah panjang, kerana reka bentuk lampu ini dapat mengelakkan kawasan panas serta tekanan haba yang timbul daripadanya. Hasilnya, kadar pengeluaran menjadi lebih tinggi, jumlah bahan yang perlu diperbaiki berkurangan, dan masa yang diperlukan untuk setiap kitaran pengeluaran dapat dirancang dengan lebih baik.
Berikut adalah beberapa perkara yang perlu diingat. Lampu-lampu ini memerlukan udara bersih dan kering, atau gas nitrogen, agar lapisan kuarsa tidak terkena kelembapan dan agar spektrum cahaya tetap stabil. Lampu-lampu ini boleh digunakan bersama-sama dengan peralatan standard OEM, namun integrasinya perlu disesuaikan dengan massa haba yang ada pada peralatan tersebut serta geometri stesen pemanasan. Semasa proses penyesuaian, perlu dilakukan penyesuaian cepat terhadap masa pemanasan, agar keseragaman suhu dapat dicapai.