In der Fertigungshalle gilt folgendes Prinzip: Schon eine Abweichung von 0,2 °C in der Backtemperatur führt dazu, dass das Profil des Fotorezystors nicht mehr den Anforderungen entspricht und somit als unbrauchbar gilt. Herkömmliche Heizplatten können diese Ungleichheiten nur bedingt ausgleichen – dadurch müssen die Kontrollgrenzen verschärft werden. Wir haben daher ein zonales Infrarotheizmodul entwickelt, das genau dort für Gleichmäßigkeit sorgt, wo es wirklich wichtig ist – nämlich auf der Oberfläche des Wafers.
Was wirklich zählt:
Kurzwelliges Infrarotlicht in Kombination mit einer unabhängigen, geschlossenen Regelungsschleife ermöglicht eine Gleichmäßigkeit der Temperatur auf der Oberfläche des Wafers von ±0,1 °C. Die Temperatur erreicht bereits nach wenigen Sekunden ihren Endwert – Dadurch verkürzt sich die Zeit bis zur Vollendung des Prozesses, und es entstehen weniger Fehler. Das Modul funktioniert in Reinräumen der Klasse 1–100, ohne dass Partikel entstehen. Die Betriebszeit beträgt 24/7, und die durchschnittliche Ausfallzeit entspricht den Erwartungen an Halbleiterausrüstung.
Warum das in der Lithografie funktioniert:
Die Wiederholgenauigkeit beim Backen bestimmt die Genauigkeit der Abmessungen des Wafers sowie die Qualität des Endprodukts. Durch die zonale Heizung wird die Varianz der Temperatur reduziert – dadurch bleibt die Qualität des Wafers über verschiedene Chargen und Schichten hinweg konstant. Das bedeutet weniger Nachbearbeitung, weniger Ausschuss und konstante Qualitätsmerkmale. Zudem wird der Energieverbrauch verringert, da das Modul nur die jeweiligen Zielzonen erhitzt und die Wärmeübertragung auf angrenzende Komponenten auf ein Minimum beschränkt wird.
Installationsanforderungen:
Für die Installation ist eine saubere, ebene Befestigungsfläche sowie genügend Platz für die Infrarotemittatoren erforderlich. Umbausätze passen zu gängigen Halterungen – doch die mechanischen Anforderungen variieren je nach Plattform. Um eine Gleichmäßigkeit von ±0,1 °C zu erreichen, muss das Modul auf das spezifische thermische Profil des Fotorezystors abgestimmt werden. Wir bieten dafür einen präzisen Kalibrierungsprozess an. Sobald das Modul eingestellt ist, bleibt der Prozess konstant – doch bei Änderungen in der Chemie des Fotorezystors ist eine erneute Kalibrierung notwendig.