在晶圆制造车间里，大家都是这么做的：如果烘烤温度出现0.2℃的偏差，那么光阻层的性能就会超出标准范围，从而无法使用。传统的加热方式难以解决边缘温度不均匀的问题，因此需要更严格的控制参数来确保温度稳定。我们设计的这种分区红外加热模块，能够消除在晶圆处理过程中出现的温度波动——也就是在晶圆本身所在的位置进行精确控制。
关键在于其工作原理
该模块采用短波红外技术，并具备独立的闭环控制功能，因此能够在光阻层表面实现±0.1℃的温度均匀性。温度可以在几秒内达到稳定状态，从而减少升温时间，进而缩小工艺控制的精度要求。该模块可在1级至100级的洁净室中运行，且不会产生任何颗粒物，这一点可以通过实时监测以及低气体释放设计来保证。它的运行时间可以达到24/7，其平均无故障时间也符合我们对半导体设备的期望。
之所以能在光刻工艺中发挥作用，是因为重复性的烘烤过程有助于控制晶圆的尺寸精度和良率。通过分区加热的方式，可以降低温度波动带来的影响，从而使不同批次、不同晶圆以及不同班次之间的烘烤效果保持一致。这样一来，就可以减少返工次数，降低废品率，同时还能保持晶圆尺寸的稳定性。此外，由于该模块只对目标区域进行加热，因此还能减少热量向相邻设备的传递，从而降低能耗。
安装时，需要一个干净、平坦的支撑面，同时还要有足够的空间来放置红外发射器阵列。这款模块可以与常见的轨道系统配套使用，不过其机械结构则因平台而异。为了达到±0.1℃的均匀性要求，该模块必须根据光阻层的特性进行校准——我们提供了相应的校准流程。一旦完成校准，工艺参数就可以保持稳定。不过，如果更改了光阻剂的成分，那就需要重新进行校准。