Litografide işler böyle yürür. Hafif bir ısıtma uygulandığında, sıcaklık bir veya iki derece bile değişirse, kritik boyut kontrolü bozulmaya başlar. Ayrıca, yüzeylerde lekeler oluşur ve bununla ilgilenmek için kimse zaman harcamak istemez. Bu arada, waflar sıraya girer ve zaman geçtikçe termal enerji tükenir. Biz de bu sorunları önlemek için özel fotorezist ısıtma lambaları geliştirdik.
Teknik olarak önemli olanlar:
Kısa dalga boylu halojen kuvars lambalar kullanıyoruz; bu lambalar enerjiyi doğrudan fotoreziste kullanır. Böylece saniyenin altında bir sürede ısıtma gerçekleşir, termal kontrol sağlanır ve 300 mm alan içinde sıcaklık ±0,1°C aralığında sabit kalır. Sistem, 1–100 sınıfı temiz odalarda çalışır ve yerinde izleme sayesinde hiçbir parçacık oluşmaz. Tekrarlanabilirlik ise parti, vardiya ve lamba ömrü açısından tutarlıdır. Yüksek kapasiteli üretim hatlarında ise sistem 24/7 çalışır ve plansız duruşlar olmaz.
Hafif ve yoğun ısıtmalarda neden işe yaradığı basittir: Sıcaklık hassasiyeti, fotorezistin profilini, yapışma özelliklerini ve aşındırma seçiciliğini belirler. Lambalar ısıtma süresini kısaltır, böylece sıra nedeniyle oluşan hatalar azalır ve hat genişliği stabil kalır. Enerji tüketimi de azalır çünkü ısı doğru yere, yani fotoreziste harcanır. Ayrıca, lambanın yapısal özellikleri sayesinde sıcak noktalar ve buna bağlı termal stresler ortadan kalkar. Sonuç olarak daha yüksek verimlilik, daha az geri işleme gereksinimi ve planlanabilir bir süreç elde edilir.
Dikkat edilmesi gereken birkaç nokta var. Bu lambaların çalışabilmesi için temiz ve kuru hava veya nitrojen kullanılmalıdır; böylece kuvars koruyucu zarar görmez ve spektral stabilite korunur. Standart OEM ekipmanlarıyla uyumlu çalışırlar, ancak entegrasyon, chuck’un ve ısıtma istasyonunun termal özelliklerine uygun olmalıdır. Kalifikasyon sırasında hızlı bir şekilde termal ayarlamalar yapılmalıdır; böylece istenen stabilite elde edilebilir.