팹에서는 2°C만큼의 온도 변화라도 포토레지스트의 특성에 영향을 미칩니다. 반면, 가장자리 부분에서 과도한 열이 발생하면 스컴이 생길 수 있습니다. IC용 컴팩트한 적외선 건조기는 단순히 유용한 장비가 아니라, 공정의 안정성을 유지하는 데 필수적인 장비입니다. 저희는 리소그래피 및 패키징 라인에서 온도의 일관성을 유지하기 위해 이러한 장비를 개발했습니다. 왜냐하면 이 분야에서는 모든 웨이퍼가 매우 중요하기 때문입니다.
핵심적인 요소들 저희는 낮은 열저항성을 가지며 빠른 속도로 열을 전달할 수 있는 근적외선(NIR) 방출기를 사용합니다. 웨이퍼 전체의 온도는 ±0.1°C 내로 유지되며, 설정된 온도의 반복성도 ±0.5°C 수준으로 유지됩니다. 따라서 로트별로 포토레지스트의 건조 프로파일이 일관되게 유지됩니다. 이 건조기는 클래스 1–100 등급의 청정실에 설치될 수 있으며, 입자가 없는 공기가 공급됩니다. 24/7 연중무휴로 작동할 수 있으며, 평균 고장 없는 작동 시간은 20,000시간 이상입니다. 크기는 300mm × 200mm × 150mm이며, 24VDC나 48VDC 전원을 사용할 수 있고, 기존의 연결 장치와도 호환됩니다.
왜 이 장비가 효과적인가? 빠르게 반응하면서도 과열되지 않는 열이 필요합니다. NIR 방출기는 빠른 열 전달과 정밀한 제어 기능을 제공하여 건조 시간을 줄이고 생산량을 높여줍니다. 에너지 사용도 줄어듭니다. 왜냐하면 방출기가 웨이퍼와 기판에 직접 열을 전달하기 때문입니다. 포토레지스트 처리 과정에서는 치명적인 오차를 줄이고 재작업을 줄여줍니다. 패키징 과정에서는 과부하된 물질을 건조시키고 수분을 제거함으로써 웨이퍼가 변형되는 것을 방지합니다. 청정실 환경에서도 입자 수를 줄여주므로, 첨단 공정에 적합합니다.
실용적인 팁들 건조기는 안정적이고 필터링된 전력 공급과 깨끗하고 건조한 공기 공급이 필요합니다. 예열 시간은 짧지만, 10분간의 안정화 시간이 지난 후에만 건조 과정을 시작해야 합니다. 크기는 작지만, 안전을 위해 방출기 주변에 충분한 공간이 필요합니다. 방출기의 스펙트럼은 포토레지스트와 기판의 특성에 맞게 조절되어야 합니다. 저희의 응용팀이 여러분의 라인에 맞는 최적의 설정을 도와드립니다.