Wafer on Factory Direct Infrared Heating

Cảm biến nhiệt độ dùng cho thiết bị xử lý wafer

Sat, 25 Jul 2026 04:50:22 +0800

Giảm lượng khí carbon trong các nhà máy sản xuất wafer: Sự thật về việc sử dụng ánh sáng hồng ngoại
Hãy thành thật mà nói – các thiết bị dùng trong ngành bán dẫn tiêu tốn rất nhiều năng lượng. Nếu xét đến lượng khí carbon được thải ra trong quá trình sản xuất wafer, thì phần lớn lượng khí thải này đến từ việc sử dụng năng lượng để làm nóng môi trường bên trong buồng chân không. Trong nhiều năm qua, chúng ta vẫn sử dụng cách làm nóng toàn bộ buồng chân không, tức là coi buồng chân không như một cái lò lớn. Điều này giống như việc dùng toàn bộ năng lượng trong ngôi nhà chỉ để làm ấm một miếng bánh pizza thôi.

Bộ sấy wafer cảm biến MEMS

Thu, 23 Jul 2026 12:01:58 +0800

Một cách tốt hơn để sấy khô các wafer cảm biến MEMS
Nếu bạn từng làm việc với các wafer cảm biến MEMS, bạn chắc hẳn hiểu rõ những khó khăn mà nó mang lại. Bạn cần loại bỏ nước trên bề mặt wafer càng nhanh càng tốt – nhưng đồng thời lại không thể để xảy ra tình trạng dấu vết do nước gây ra, hay những ảnh hưởng tiêu cực do nhiệt độ cao gây ra.

Khoảng cách an toàn khi làm nóng wafer

Mon, 20 Jul 2026 11:31:06 +0800

Tia hồng ngoại so với không khí nóng: Phương pháp tốt hơn để làm nóng các tấm wafer?
Nếu bạn vẫn sử dụng không khí nóng để làm nóng các tấm wafer, thì bạn đang chấp nhận việc chờ đợi một cách vô ích. Lý do là vì không khí nóng hoạt động dựa trên nguyên lý đối lưu – bạn làm nóng không khí trước, sau đó không khí mới làm nóng các tấm wafer. Đây là phương pháp gián tiếp, và nó gây ra sự chậm trễ trong quá trình xử lý.

Bộ sưởi wafer tiết kiệm năng lượng

Fri, 17 Jul 2026 07:41:34 +0800

Sử dụng công nghệ sưởi ấm bằng tia hồng ngoại một cách hiệu quả trong nhà máy thông minh
Nếu bạn đang xây dựng một nhà máy thông minh cho ngành công nghiệp 4.0, bạn cần suy nghĩ lại cách quản lý việc sưởi ấm. Những bộ sưởi truyền thống không thể đáp ứng được yêu cầu này; chúng hoạt động quá chậm. Khi xử lý các tấm wafer hiện đại, bạn cần một phương pháp sưởi ấm có khả năng tác động ngay lập tức lên vật thể cần sưởi.

Cảm biến hồng ngoại chính xác dùng cho wafer

Fri, 10 Jul 2026 12:35:07 +0800

Tại sao chúng tôi lại quan tâm đến việc kiểm tra khả năng cách điện của các cảm biến hồng ngoại

Khi làm việc với việc chế tạo wafer, mức độ rủi ro là cực kỳ cao. Chỉ cần có một sự rò rỉ điện nhỏ thôi cũng đủ khiến toàn bộ lô sản phẩm silicon trở thành phế phẩm.

Đó là lý do tại sao chúng tôi không chỉ kiểm tra một vài mẫu thử mà thôi. Mỗi chiếc cảm biến trước khi ra khỏi nhà máy đều phải trải qua kiểm tra độ chịu điện áp và khả năng cách điện ở mức 100%. Đây là yêu cầu bắt buộc, không thể bỏ qua.

Bộ phản quang dùng cho đèn sấy wafer

Thu, 09 Jul 2026 03:53:50 +0800

Tại sao việc sử dụng công nghệ khử ẩm bằng tia hồng ngoại lại là tiêu chuẩn trong ngành bán dẫn?
Chúng tôi chế tạo các bộ phản xạ ánh sáng để sử dụng trong các thiết bị sấy khô wafer, bởi vì thực ra, ngành bán dẫn cần một quy trình sấy khô chính xác và hiệu quả. Công nghệ khử ẩm bằng tia hồng ngoại đã trở thành tiêu chuẩn được ưa chuộng trong quy trình sản xuất không chứa chì, giúp tiết kiệm năng lượng. Lý do là vì công nghệ này cho phép truyền nhiệt đúng vào vị trí cần thiết, mà không làm toàn bộ buồng sấy trở thành lò nướng. Điều này giúp loại bỏ nhu cầu sử dụng dung môi và giảm thiểu lượng không khí thừa. Kết quả là tiết kiệm năng lượng hơn, đồng thời vẫn đáp ứng được các yêu cầu về môi trường. Bạn cũng có thể kiểm soát quá trình sấy khô một cách chính xác, giúp wafer được bảo vệ tốt – không có sai sót hay sự thay đổi nào xảy ra.

Đèn sấy wafer 300mm

Fri, 03 Jul 2026 08:59:49 +0800

Trên dây chuyền sản xuất 300mm, máy sấy không phải là thiết bị có thể bỏ qua được. Đó là công đoạn kiểm soát nhiệt độ cuối cùng trước khi wafer được đưa ra khỏi dây chuyền. Chỉ cần có sự chênh lệch nhiệt độ vài độ trong quá trình sấy phim phủ, hoặc do các hạt từ bóng đèn bị lão hóa, thì quy trình in ấn sẽ trở nên vô ích. Chúng tôi thiết kế máy sấy wafer dựa trên một yêu cầu quan trọng: giữ nhiệt độ của wafer ở mức ±0.1°C, đồng thời tránh mọi nguy cơ gây ô nhiễm.

Mô đun sấy wafer kích thước 200mm

Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800

Trên dây chuyền sản xuất có kích thước 200mm, chỉ cần một bước xử lý sai lệch cũng có thể làm giảm chất lượng sản phẩm. Nước còn sót lại sau quá trình làm sạch sẽ tạo thành những vết ố trên bề mặt phim ảnh hóa học; đồng thời, quá trình sấy ở nhiệt độ cao cũng khiến cho các thông số kỹ thuật không còn được kiểm soát chính xác nữa. Không thể khắc phục vấn đề này bằng cách điều chỉnh thông số hoạt động của máy móc – điều cần thiết là phải có bộ phận sấy hoạt động ổn định từ lần này sang lần khác.