Sưởi Ấm on Factory Direct Infrared Heating

Khoảng cách an toàn khi làm nóng wafer

Mon, 20 Jul 2026 11:31:06 +0800

Tia hồng ngoại so với không khí nóng: Phương pháp tốt hơn để làm nóng các tấm wafer?
Nếu bạn vẫn sử dụng không khí nóng để làm nóng các tấm wafer, thì bạn đang chấp nhận việc chờ đợi một cách vô ích. Lý do là vì không khí nóng hoạt động dựa trên nguyên lý đối lưu – bạn làm nóng không khí trước, sau đó không khí mới làm nóng các tấm wafer. Đây là phương pháp gián tiếp, và nó gây ra sự chậm trễ trong quá trình xử lý.

Bộ phận sưởi thay thế độ bảo vệ IP65

Sun, 19 Jul 2026 16:08:16 +0800

Giữ cho phòng tắm ấm áp (mà không làm chói mắt người khác)
Khi chế tạo các bộ phận sưởi ấm cho đèn trong phòng tắm, chúng tôi không chỉ quan tâm đến việc làm thế nào để căn phòng trở nên ấm áp. Chúng tôi còn quan tâm đến tính năng chiếu sáng của đèn nữa.

Các loại đèn hồng ngoại thông thường thực chất giống như những chiếc đèn chiếu sáng cường độ cao. Chúng phát ra ánh sáng cực mạnh, có thể gây tổn thương cho mắt – điều này rất nguy hiểm đối với trẻ sơ sinh. Chúng tôi không muốn điều đó xảy ra. Vì vậy, chúng tôi sử dụng lớp phủ thạch anh và khí halogen để điều chỉnh bước sóng ánh sáng.

Bàn sưởi chống nước độ bảo vệ IP44

Wed, 15 Jul 2026 10:07:45 +0800

Làm ấm các khu vực ẩm ướt mà không cần chờ đợi
Nếu bạn từng bước vào phòng thay đồ lạnh ngắt sau khi bơi, bạn sẽ hiểu rõ cảm giác đó. Thật khó chịu. Và nếu bạn cố gắng sử dụng máy sưởi thông thường để khắc phục tình trạng này, thì đó là một nỗ lực vô ích. Không khí không thể giữ nhiệt tốt được.

Đó là lý do tại sao chúng tôi sử dụng tia hồng ngoại ngắn bước sóng (SWIR). Thay vì cố gắng làm ấm toàn bộ căn phòng – điều này mất rất nhiều thời gian – những thiết bị này sẽ truyền nhiệt trực tiếp vào cơ thể con người. Giống như việc đứng dưới ánh nắng mặt trời vậy. Bạn sẽ cảm nhận được hơi ấm ngay lập tức.

Phần tử gia nhiệt lò LPCVD

Mon, 08 Jun 2026 05:12:05 +0800

Trên sàn sản xuất, độ lệch nhiệt của lò không chỉ là một con số trên màn hình hiển thị. Nó biểu hiện dưới dạng sự dịch chuyển kích thước quan trọng và các hồ sơ pha tạp bị sai lệch trên wafer. Một vùng nhiệt cao lệch, và bạn sẽ phải đối mặt với tổn thất năng suất do biến động quá trình nung photoresist và ứng suất màng không bao giờ trùng khớp chính xác lần nào.

Đèn sưởi nước siêu tinh khiết

Wed, 03 Jun 2026 12:27:48 +0800

Trên sàn sản xuất, quá trình nung photoresist không chỉ liên quan đến nhiệt độ đỉnh. Quan trọng là tính đồng đều nhiệt trên toàn bộ wafer. Một sai lệch 0,5°C có thể làm thay đổi độ lệch CD và ảnh hưởng đến tỷ lệ thành phẩm ngoài tiêu chuẩn. Chúng tôi thiết kế đèn gia nhiệt nước siêu tinh khiết nhằm duy trì ổn định hồ sơ nhiệt tại vị trí quan trọng — trên lớp resist, phủ toàn bộ bề mặt, qua từng chu trình.