<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Ультра on Factory Direct Infrared Heating</title>
		<link>http://infrared-heat-direct.com/uk/tags/%D1%83%D0%BB%D1%8C%D1%82%D1%80%D0%B0/</link>
		<description>Recent content in Ультра on Factory Direct Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 03 Jun 2026 12:27:48 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infrared-heat-direct.com/uk/tags/%D1%83%D0%BB%D1%8C%D1%82%D1%80%D0%B0/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Ультра чиста лампа для нагрівання води</title>
				<link>http://infrared-heat-direct.com/uk/posts/ultra-pure-water-heating-lamp/</link>
				<pubDate>Wed, 03 Jun 2026 12:27:48 +0800</pubDate>
				<guid>http://infrared-heat-direct.com/uk/posts/ultra-pure-water-heating-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-direct.com/images/0ea7296bcdd661f341d1983d454c4037.png&#34; alt=&#34;Ультра чиста лампа для нагрівання води&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На виробничій ділянці запікання фоторезисту важливий не лише піковий температурний режим, а й термічна однорідність по всій поверхні wafer-а. Зсув у 0,5°C може змінити CD-біас і вивести вихід продукції за межі специфікації. Ми розробили нагрівальну лампу з ультрачистою водою, щоб підтримувати стабільний тепловий профіль там, де це має значення — на резисті, по всій поверхні, цикл за циклом.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Технічно важливим є контроль. Ми використовуємо короткохвильовий галогеновий випромінювач у кварцовому корпусі, у поєднанні з геометрією з низькою тепловою масою. Це забезпечує швидкий, спрямований нагрів із відгуком менш ніж за секунду. Результат — однорідність на рівні wafer-а в межах ±0,1°C і повторюваність від циклу до циклу в межах 0,05°C.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
