Сушка on Factory Direct Infrared Heating

Нагреватель для сушки пластин с датчиками MEMS

Thu, 23 Jul 2026 12:01:58 +0800

Более эффективный способ сушки пластин с датчиками MEMS
Если вы когда-либо имели дело с пластинами с датчиками MEMS, то знаете, с какими трудностями приходится сталкиваться. Необходимо быстро избавиться от воды на поверхности пластин, но в то же время нельзя допустить появления следов от воды или тепловых напряжений, которые могут повредить пластины.

Долгое время для сушки использовались конвекционные печи. Но, честно говоря, это неэффективно – приходится нагревать всю камеру лишь для того, чтобы высушить несколько пластин. Этот процесс медленный, дорогой, и он совсем не соответствует принципам «зеленого производства», к которым мы все стремимся сегодня.

Энергетический аудит сушильных установок

Thu, 09 Jul 2026 04:00:09 +0800

Энергетический аудит процесса сушки в производственных помещениях: почему направленное инфракрасное излучение является оптимальным решением
Давайте поговорим о процессе сушки в производственных помещениях. Здесь необходима максимальная точность. Старый способ – нагрев конвекцией – приводит к тому, что нагревается вся камера, включая стены и оборудование, расположенное рядом с деталью, которую нужно высушить. Это похоже на нагрев всей кухни лишь для того, чтобы поджарить ломтик хлеба.

Поэтому мы разработали более эффективный способ – использование направленного инфракрасного излучения. Суть этого метода заключается в использовании лампы с коротковолновым инфракрасным излучением, которая направляет тепло именно туда, где это необходимо. Таким образом, не тратится лишняя энергия, а оборудование не перегревается. Все происходит четко и эффективно.

Лампа для сушки пластин 300 мм

Fri, 03 Jul 2026 08:59:49 +0800

На линиях для обработки пластин размером 300 мм наличие сушильного устройства является не просто желательным, а крайне важным элементом оборудования. Это последний этап термической обработки перед тем, как пластина покидает производственную линию. Незначительные отклонения температуры во время просушки фотополимера или повреждение лампы из-за её износа могут привести к тому, что результаты литографии будут непредсказуемыми. Мы спроектировали наше устройство для сушки пластин с учетом одного строгого требования: поддержание температуры на уровне ±0,1°C без возникновения загрязнений.

Модуль сушки вафер 200 мм

Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800

На линии размером 200 мм один лишний шаг в процессе обработки может серьезно снизить качество продукции. Вода, оставшаяся после очистки, оставляет следы на фотополимере; кроме того, процедура сушки может нарушить точность контроля критических размеров деталей. Эту проблему нельзя решить путем корректировок параметров работы оборудования – необходим модуль сушки, который будет выполнять свои функции стабильно и последовательно.

Что действительно важно
Наш модуль сушки wafer размером 200 мм основан на принципах контролируемой термической обработки и минимизации загрязнений. Равномерность температуры по всей поверхности wafer поддерживается в пределах ±0,1°C, что обеспечивает стабильность параметров сушки в разных партиях продукции. Система подходит для использования в чистых помещениях классов 1–100 и спроектирована так, чтобы полностью исключить образование частиц, что крайне важно при литографии. При круглосуточной работе система обеспечивает отсутствие простоев; срок службы составляет десятки тысяч часов. Повторяемость результатов не является приоритетной характеристикой – это само собой разумеющееся.