Модуль сушки вафер 200 мм

Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800

На линии размером 200 мм один лишний шаг в процессе обработки может серьезно снизить качество продукции. Вода, оставшаяся после очистки, оставляет следы на фотополимере; кроме того, процедура сушки может нарушить точность контроля критических размеров деталей. Эту проблему нельзя решить путем корректировок параметров работы оборудования – необходим модуль сушки, который будет выполнять свои функции стабильно и последовательно.

Что действительно важно
Наш модуль сушки wafer размером 200 мм основан на принципах контролируемой термической обработки и минимизации загрязнений. Равномерность температуры по всей поверхности wafer поддерживается в пределах ±0,1°C, что обеспечивает стабильность параметров сушки в разных партиях продукции. Система подходит для использования в чистых помещениях классов 1–100 и спроектирована так, чтобы полностью исключить образование частиц, что крайне важно при литографии. При круглосуточной работе система обеспечивает отсутствие простоев; срок службы составляет десятки тысяч часов. Повторяемость результатов не является приоритетной характеристикой – это само собой разумеющееся.

Модуль инфракрасного отопления с зонированием

Tue, 23 Jun 2026 00:11:51 +0800

На производственном участке все просто: даже небольшое изменение температуры в 0,2°C может привести к тому, что параметры фотопреобразователя выйдут за пределы допустимых значений, и продукт станет бракованным. Традиционные нагревательные устройства не могут эффективно бороться с неравномерностью температуры по всей поверхности пластины, поэтому приходится ужесточать требования к контролю температуры. Мы разработали модуль инфракрасного нагрева с зонированным управлением, который позволяет исключить такую нестабильность прямо на уровне самой пластины.

Что имеет значение Инфракрасное излучение коротких волн с независимым контролем в каждой зоне обеспечивает однородность температуры на поверхности пластины в пределах ±0,1°C. Температура стабилизируется за считанные секунды, что сокращает время нагрева и позволяет использовать более строгие параметры процесса. Устройство может работать в чистых комнатах класса 1–100 без образования частиц, что подтверждается контролем в реальном времени и специальной конструкцией устройства, минимизирующей выброс газов. Время работы устройства составляет 24/7, а срок службы соответствует ожиданиям, связанным с оборудованием для производства полупроводников.

Модуль on Factory Direct Infrared Heating

Модуль сушки вафер 200 мм

Модуль инфракрасного отопления с зонированием