Secagem on Factory Direct Infrared Heating

Aquecedor para secagem de wafers de sensores MEMS

Thu, 23 Jul 2026 12:01:58 +0800

Uma maneira melhor de secar as pastilhas de sensores MEMS

Se você já lidou com pastilhas de sensores MEMS, sabe bem as dificuldades envolvidas. É preciso remover a água rapidamente – mas não se pode permitir que haja marcas causadas pela água ou algum tipo de estresse térmico que possa estragar o lote de pastilhas.

Por muito tempo, o método mais utilizado foi o uso de fornos de convecção. Mas, honestamente, esse método é ineficiente. Acaba-se aquecendo toda a câmara só para secar algumas pastilhas. É lento, caro e não se encaixa nos objetivos de “fábricas verdes” que todos buscamos hoje em dia.

Auditoria energética para secagem de fábricas

Thu, 09 Jul 2026 04:00:09 +0800

Auditoria Energética para Secagem em Fábricas: Por Que o Infravermelho Direcional é a Solução Ideal
Vamos falar sobre a secagem nas fábricas. É preciso precisão, ponto final. O método tradicional – aquecimento por convecção – simplesmente aquece todo o ambiente, incluindo as paredes e os equipamentos ao redor da peça a ser secada. É como aquecer toda a cozinha só para torrar um pedaço de pão.

Por isso, desenvolvemos um método melhor: o infravermelho direcional.
O coração desse sistema é uma lâmpada de infravermelho de onda curta, que direciona o calor exatamente onde é necessário. Não há mais perda de energia, nem risco de os equipamentos superaquecerem. Tudo funciona de maneira eficiente e precisa.

Lâmpada de secagem de wafer 300mm

Fri, 03 Jul 2026 08:59:49 +0800

Na linha de 300 mm, o secador não é algo opcional. É o último ponto de controle térmico antes que o wafer saia da fábrica. Alguns graus de irregularidade na temperatura durante o processo de secagem do fotoresist, ou partículas geradas por lâmpadas em desgaste, podem transformar um processo de litografia confiável em algo inútil. Construímos nossa lâmpada de secagem de wafers com base em um requisito fundamental: manter a temperatura do wafer dentro de ±0,1°C, sem causar contaminação.

Módulo de secagem de wafer de 200 mm

Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800

Em uma linha de 200 mm, um único passo de secagem inadequado pode prejudicar significativamente a qualidade do produto final. A água residual após a limpeza fica como uma “marca d’água” no fotoresistente, e o processo de secagem inadequado faz com que o controle das dimensões críticas fique fora dos padrões estabelecidos. Não é possível contornar esse problema apenas com ajustes feitos pelo operador – o que é necessário é um módulo de secagem que funcione de maneira consistente, turno após turno.