<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>300mm on Factory Direct Infrared Heating</title>
		<link>http://infrared-heat-direct.com/pt/tags/300mm/</link>
		<description>Recent content in 300mm on Factory Direct Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>pt</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:59:49 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infrared-heat-direct.com/pt/tags/300mm/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lâmpada de secagem de wafer 300mm</title>
				<link>http://infrared-heat-direct.com/pt/posts/wafer-drying-lamp-300mm/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:59:49 +0800</pubDate>
				<guid>http://infrared-heat-direct.com/pt/posts/wafer-drying-lamp-300mm/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-direct.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lâmpada de secagem de wafer 300mm&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Na linha de 300 mm, o secador não é algo opcional. É o último ponto de controle térmico antes que o wafer saia da fábrica. Alguns graus de irregularidade na temperatura durante o processo de secagem do fotoresist, ou partículas geradas por lâmpadas em desgaste, podem transformar um processo de litografia confiável em algo inútil. Construímos nossa lâmpada de secagem de wafers com base em um requisito fundamental: manter a temperatura do wafer dentro de ±0,1°C, sem causar contaminação.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
