Wafer on Factory Direct Infrared Heating

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Sat, 25 Jul 2026 04:50:23 +0800

Mengurangkan penggunaan karbon di fasiliti pembuatan wafer: Kebenaran tentang penggunaan haba inframerah
Sejujurnya, alat-alat yang digunakan dalam proses pembuatan semikonduktor memerlukan banyak tenaga untuk berfungsi. Jika kita lihat jejak karbon yang dihasilkan oleh fasiliti pembuatan wafer, sebahagian besar pembaziran tenaga berlaku akibat penggunaan haba yang berlebihan. Selama ini, kita hanya memanaskan seluruh bilik vakum tersebut seperti sebuah oven besar. Ini sama saja seperti memanaskan seluruh rumah hanya untuk memanaskan sepotong pizza sahaja.

Dengan beralih kepada sistem lampu inframerah yang lebih efisien, keadaan ini dapat diatasi. Daripada memanaskan keseluruhan bilik vakum, haba akan disalurkan tepat ke kawasan yang diperlukan oleh wafer tersebut.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Thu, 23 Jul 2026 12:01:58 +0800

Cara yang Lebih Baik untuk Mengeringkan Wafer Sensor MEMS
Jika anda pernah berurusan dengan wafer sensor MEMS, pasti anda tahu betapa sukarnya proses ini. Anda perlu menghilangkan air dari wafer tersebut secepat mungkin—tetapi pada masa yang sama, anda tidak boleh membiarkan adanya kesan air atau tekanan haba yang boleh merosakkan wafer tersebut.

Selama ini, kaedah yang digunakan ialah menggunakan ketuhar konveksi. Namun, sebenarnya kaedah ini membuang-buang tenaga. Anda perlu memanaskan seluruh ruang dalam ketuhar hanya untuk mengeringkan beberapa wafer sahaja. Prosesnya lambat, mahal, dan tidak sesuai dengan prinsip “kilang hijau” yang kita kejar sekarang.

Jarak keselamatan untuk pemanasan wafer

Mon, 20 Jul 2026 11:31:06 +0800

Inframerah berbanding udara panas: Adakah ini cara yang lebih baik untuk memanaskan wafer?

Jika anda masih bergantung pada udara panas untuk memanaskan wafer anda, sebenarnya anda sedang menunggu masa yang lama. Ini kerana udara panas menggunakan prinsip konveksi – anda memanaskan udara terlebih dahulu, dan kemudian udara tersebut pula yang memanaskan wafer. Ia merupakan cara yang tidak efisien, dan ia menyebabkan kelewatan dalam proses pemrosesan.

Pemanasan menggunakan inframerah pula berbeza. Ia menggunakan tenaga radiasi yang mengenai permukaan wafer secara langsung. Tiada proses perantaraan, jadi tiada keperluan untuk menunggu.

Pemanas wafer yang cekap dari segi penggunaan tenaga

Fri, 17 Jul 2026 07:42:51 +0800

Menggunakan Sistem Pemanasan Inframerah dengan Betul dalam Kilang Pintar Anda
Jika anda sedang membina kilang pintar untuk Industri 4.0, anda perlu memikirkan semula cara penggunaan haba dalam proses pengeluaran. Pemanas jenis resistif yang digunakan sebelum ini tidak cukup efisien – ia terlalu lambat. Dalam proses pemprosesan wafer moden, kita memerlukan sistem yang mampu memberikan haba dengan cepat.

Itulah sebabnya kita menggunakan sistem inframerah (IR). Daripada membuang masa untuk memanaskan udara atau dinding bilik pemprosesan, sinar IR dapat menghantar haba secara langsung ke kawasan yang dikehendaki. Cara ini lebih efisien dan cepat.

Penderia IR berketepatan tinggi untuk wafer

Fri, 10 Jul 2026 12:35:07 +0800

Mengapa kita perlu memastikan kualiti penderia IR melalui ujian dielektrik
Ketika bekerja dengan proses pembuatan wafer, risikonya sangat tinggi. Sekiranya berlaku sedikit sahaja kebocoran elektrik, maka seluruh kumpulan wafer tersebut akan menjadi sampah. Itulah sebabnya kita tidak melakukan ujian secara rawak. Kita tidak hanya menguji beberapa buah penderia sahaja dan berharap yang terbaik akan berlaku. Setiap unit yang keluar dari kilang kita harus menjalani ujian voltan tahanan dan rintangan isolasi sebanyak 100%. Ini merupakan syarat yang mustahil untuk diabaikan.

Reflektor untuk lampu pengeringan wafer

Thu, 09 Jul 2026 03:53:50 +0800

Mengapa Pengeringan menggunakan Inframerah merupakan Standard dalam Industri Semikonduktor
Kita menggunakan reflektor pada lampu pengeringan wafer kerana, sejujurnya, industri semikonduktor memerlukan proses pengeringan yang tepat dan bersih. Pengeringan menggunakan inframerah telah menjadi standard utama dalam proses pembuatan yang bebas plumbum dan efisien dari segi tenaga. Alasannya ialah cara ini memungkinkan haba disalurkan ke tempat yang diperlukan sahaja, tanpa membuat seluruh ruang menjadi panas.

Ini bermakna kita tidak perlu menggunakan pelarut lagi, dan masalah aliran udara berlebihan juga dapat dielakkan. Kelebihannya ialah penggunaan tenaga yang lebih sedikit, sambil masih memenuhi standard alam sekitar yang ketat. Profil pengeringan yang dihasilkan juga konsisten, sehingga wafer tetap utuh—tanpa sebarang masalah atau kompromi.

Lampu pengeringan wafer 300mm

Fri, 03 Jul 2026 08:59:50 +0800

Pada lini pengeluaran 300mm ini, pengering bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan. Ia merupakan langkah terakhir dalam proses pemanasan sebelum wafer siap diproses. Sebarang perbezaan suhu yang sedikit semasa proses pemanasan, atau kehadiran zarah-zarah dari lampu yang sudah usang, akan menyebabkan hasil pengeluaran menjadi tidak konsisten. Kami merancang lampu pengering wafer ini berdasarkan satu syarat penting: memastikan suhu wafer berada dalam julat ±0.1°C, tanpa adanya kontaminasi.

Apa yang penting dalam sistem ini
Kami menggunakan pengeluar cahaya inframerah gelombang pendek untuk memastikan pemanasan yang cepat dan tepat. Suhu dapat dikawal dengan tepat tanpa sebarang kelewatan. Jendela kuarsa yang dioptimasikan untuk digunakan pada lini 300mm, serta reka bentuk reflektor yang efektif, membantu memastikan suhu yang seragam di seluruh permukaan wafer. Sistem ini juga sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dan direka agar tidak menghasilkan zarah-zarah berbahaya. Sistem kawalan berkelajuan tinggi memastikan hasil pengeluaran yang konsisten, sehingga setiap wafer mendapat rawatan yang sama setiap kali diproses.

Modul pengeringan wafer 200mm

Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800

Pada line 200mm, satu langkah pembersihan yang tidak sempurna boleh merosakkan kualiti hasil pengeluaran. Air yang tertinggal selepas proses pembersihan akan meninggalkan kesan pada lapisan photoresist. Selain itu, proses pembakaran yang tidak betul juga boleh menyebabkan ketidakstabilan dimensi komponen yang dihasilkan. Perubahan kecil yang dilakukan oleh operator tidak akan dapat menyelesaikan masalah ini. Yang diperlukan ialah modul pengeringan yang mampu berfungsi dengan konsisten dari masa ke masa.

Apa yang penting di sebaliknya
Modul pengeringan wafer 200mm kami direka untuk memastikan kawalan suhu yang tepat serta mengurangkan pencemaran. Kestabilan suhu pada permukaan wafer dikekalkan dalam lingkungan ±0.1°C, agar proses pembakaran berjalan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Sistem ini sesuai digunakan dalam bilik bersih tahap 1–100, dan direka untuk mengelakkan penghasilan zarah-zarah yang boleh merosakkan kualiti produk. Dalam operasi 24/7, reka bentuk ini bertujuan untuk mengelakkan gangguan operasi, dengan jangka hayat yang mencapai puluhan ribu jam. Ketepatan operasi merupakan aspek yang sangat penting.