<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Modul on Factory Direct Infrared Heating</title>
		<link>http://infrared-heat-direct.com/ms/tags/modul/</link>
		<description>Recent content in Modul on Factory Direct Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infrared-heat-direct.com/ms/tags/modul/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Modul pengeringan wafer 200mm</title>
				<link>http://infrared-heat-direct.com/ms/posts/wafer-drying-module-200mm/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://infrared-heat-direct.com/ms/posts/wafer-drying-module-200mm/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Modul pengeringan wafer 200mm&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada line 200mm, satu langkah pembersihan yang tidak sempurna boleh merosakkan kualiti hasil pengeluaran. Air yang tertinggal selepas proses pembersihan akan meninggalkan &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;kesan&lt;/a&gt; pada lapisan photoresist. Selain itu, proses pembakaran yang tidak betul juga boleh menyebabkan ketidakstabilan dimensi komponen yang dihasilkan. Perubahan kecil yang dilakukan oleh operator tidak akan dapat menyelesaikan masalah ini. Yang diperlukan ialah modul pengeringan yang mampu berfungsi dengan konsisten dari masa ke masa.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting di sebaliknya&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Modul pengeringan wafer 200mm kami direka &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;untuk&lt;/a&gt; memastikan kawalan suhu yang tepat serta mengurangkan pencemaran. Kestabilan suhu pada permukaan wafer dikekalkan dalam lingkungan ±0.1°C, agar proses pembakaran berjalan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Sistem ini sesuai digunakan dalam bilik bersih tahap 1–100, dan direka untuk mengelakkan penghasilan zarah-zarah yang boleh merosakkan kualiti produk. Dalam operasi 24/7, reka bentuk ini bertujuan untuk mengelakkan gangguan operasi, dengan jangka hayat yang mencapai puluhan ribu jam. Ketepatan operasi merupakan aspek yang sangat penting.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
			<item>
				<title>Modul pemanasan inframerah berzon</title>
				<link>http://infrared-heat-direct.com/ms/posts/zoned-infrared-heating-module/</link>
				<pubDate>Tue, 23 Jun 2026 00:11:51 +0800</pubDate>
				<guid>http://infrared-heat-direct.com/ms/posts/zoned-infrared-heating-module/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Modul pemanasan inframerah berzon&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di bilik pengeluaran, anda pasti tahu prosedurnya: &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;perubahan&lt;/a&gt; suhu sebanyak 0.2°C sahaja sudah cukup untuk merosakkan kualiti permukaan wafer tersebut. Kaedah pemanasan konvensional tidak mampu mengatasi masalah ketidakkonsistenan suhu di permukaan wafer, jadi anda perlu memantau suhu dengan lebih teliti. Kami telah mencipta modul pemanasan inframerah berzon agar variasi suhu dapat dikurangkan, terutamanya pada bahagian wafer itu sendiri.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;dalam&lt;/a&gt; modul ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Penggunaan gelombang inframerah pendek dengan kawalan berzon yang efektif membolehkan suhu permukaan wafer kekal stabil pada tahap ±0.1°C. Suhu dapat dicapai dalam masa beberapa saat sahaja, sehingga masa yang diperlukan untuk proses pemanasan berkurangan. Modul ini boleh digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa penghasilan zarah-zarah berbahaya. Masa operasinya adalah 24/7, dengan jangka hayat yang sesuai dengan standard peralatan semikonduktor.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
