Mengeringkan on Factory Direct Infrared Heating

Ujian audit tenaga untuk proses pengeringan di kilang.

Thu, 09 Jul 2026 04:00:09 +0800

Audit Tenaga untuk Proses Pengeringan di Kilang Pembuatan: Mengapa Penggunaan Sinar Infra Merah Berarah Adalah Pilihan Terbaik
Mari kita bincangkan tentang proses pengeringan di kilang pembuatan. Kita memerlukan ketepatan yang tinggi dalam proses ini. Cara lama, iaitu menggunakan haba konvektif, hanya akan memanaskan seluruh ruang di dalam bilik pengeringan, termasuk dinding dan komponen-komponen di sekelilingnya. Ia sama seperti memanaskan seluruh dapur semata-mata untuk memanggang sekeping roti.

Oleh itu, kita mencipta cara yang lebih baik, iaitu penggunaan sinar inframerah berarah. Inti daripada sistem ini ialah lampu inframerah gelombang pendek yang mampu menghantar haba tepat ke tempat yang diperlukan. Tiada lagi pembaziran tenaga, dan peralatan juga tidak akan menjadi terlalu panas. Sistem ini benar-benar efektif dan tepat sasaran.

Lampu pengeringan wafer 300mm

Fri, 03 Jul 2026 08:59:50 +0800

Pada lini pengeluaran 300mm ini, pengering bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan. Ia merupakan langkah terakhir dalam proses pemanasan sebelum wafer siap diproses. Sebarang perbezaan suhu yang sedikit semasa proses pemanasan, atau kehadiran zarah-zarah dari lampu yang sudah usang, akan menyebabkan hasil pengeluaran menjadi tidak konsisten. Kami merancang lampu pengering wafer ini berdasarkan satu syarat penting: memastikan suhu wafer berada dalam julat ±0.1°C, tanpa adanya kontaminasi.

Apa yang penting dalam sistem ini
Kami menggunakan pengeluar cahaya inframerah gelombang pendek untuk memastikan pemanasan yang cepat dan tepat. Suhu dapat dikawal dengan tepat tanpa sebarang kelewatan. Jendela kuarsa yang dioptimasikan untuk digunakan pada lini 300mm, serta reka bentuk reflektor yang efektif, membantu memastikan suhu yang seragam di seluruh permukaan wafer. Sistem ini juga sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dan direka agar tidak menghasilkan zarah-zarah berbahaya. Sistem kawalan berkelajuan tinggi memastikan hasil pengeluaran yang konsisten, sehingga setiap wafer mendapat rawatan yang sama setiap kali diproses.

Modul pengeringan wafer 200mm

Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800

Pada line 200mm, satu langkah pembersihan yang tidak sempurna boleh merosakkan kualiti hasil pengeluaran. Air yang tertinggal selepas proses pembersihan akan meninggalkan kesan pada lapisan photoresist. Selain itu, proses pembakaran yang tidak betul juga boleh menyebabkan ketidakstabilan dimensi komponen yang dihasilkan. Perubahan kecil yang dilakukan oleh operator tidak akan dapat menyelesaikan masalah ini. Yang diperlukan ialah modul pengeringan yang mampu berfungsi dengan konsisten dari masa ke masa.

Apa yang penting di sebaliknya
Modul pengeringan wafer 200mm kami direka untuk memastikan kawalan suhu yang tepat serta mengurangkan pencemaran. Kestabilan suhu pada permukaan wafer dikekalkan dalam lingkungan ±0.1°C, agar proses pembakaran berjalan secara konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Sistem ini sesuai digunakan dalam bilik bersih tahap 1–100, dan direka untuk mengelakkan penghasilan zarah-zarah yang boleh merosakkan kualiti produk. Dalam operasi 24/7, reka bentuk ini bertujuan untuk mengelakkan gangguan operasi, dengan jangka hayat yang mencapai puluhan ribu jam. Ketepatan operasi merupakan aspek yang sangat penting.