<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>300mm on Factory Direct Infrared Heating</title>
		<link>http://infrared-heat-direct.com/ms/tags/300mm/</link>
		<description>Recent content in 300mm on Factory Direct Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:59:50 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infrared-heat-direct.com/ms/tags/300mm/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pengeringan wafer 300mm</title>
				<link>http://infrared-heat-direct.com/ms/posts/wafer-drying-lamp-300mm/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:59:50 +0800</pubDate>
				<guid>http://infrared-heat-direct.com/ms/posts/wafer-drying-lamp-300mm/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-direct.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lampu pengeringan wafer 300mm&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada lini pengeluaran 300mm ini, pengering bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan. Ia merupakan langkah terakhir dalam proses pemanasan sebelum wafer siap diproses. Sebarang perbezaan suhu yang sedikit semasa proses pemanasan, atau kehadiran zarah-zarah dari lampu yang sudah usang, akan menyebabkan hasil pengeluaran menjadi tidak konsisten. Kami merancang lampu pengering wafer ini berdasarkan satu syarat penting: memastikan suhu wafer berada dalam julat ±0.1°C, &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;tanpa&lt;/a&gt; adanya kontaminasi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam sistem ini&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan pengeluar cahaya inframerah gelombang pendek untuk memastikan pemanasan yang cepat dan tepat. Suhu dapat dikawal dengan tepat tanpa sebarang kelewatan. Jendela kuarsa yang dioptimasikan untuk digunakan pada lini 300mm, serta reka bentuk reflektor yang efektif, membantu memastikan suhu yang seragam di seluruh permukaan wafer. Sistem ini juga sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dan direka agar tidak menghasilkan zarah-zarah berbahaya. Sistem kawalan berkelajuan tinggi memastikan hasil pengeluaran yang konsisten, sehingga setiap wafer mendapat rawatan yang sama setiap kali diproses.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
