Di bahagian pengeringan, perubahan suhu sebanyak 2°C sahaja sudah cukup untuk mengubah profil fotoresist tersebut. Pengeringan yang berlaku pada suhu tinggi di bahagian tepi boleh menyebabkan kotoran terbentuk. Pengering inframerah yang digunakan untuk proses pemprosesan IC bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan komponen penting dalam proses pengeluaran. Kami membina unit ini untuk memastikan kestabilan suhu semasa proses litografi dan pembungkusan, kerana dalam bidang ini, setiap wafer sangat penting.
Apa yang penting dari segi teknikal
Unit ini menggunakan pemancar inframerah dekat (NIR) yang direka untuk memberikan pemanasan yang cepat dengan inersia termal yang rendah. Kestabilan suhu di seluruh permukaan wafer dapat dipertahankan pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan tetapan suhu pula adalah ±0.5°C. Dengan ini, profil pemanasan fotoresist dapat dipertahankan dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain. Unit ini sesuai digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, dengan sistem pengudaraan yang dikawal rapi dan tiada pelepasan zarah sama sekali. Ia boleh beroperasi 24/7, dengan jangka hayat melebihi 20,000 jam, tanpa sebarang masa henti yang tidak dirancang. Saiznya agak kecil: 300 mm × 200 mm × 150 mm. Ia beroperasi menggunakan voltan 24 VDC atau 48 VDC, dengan sambungan standard yang boleh disambungkan ke sistem sedia ada.
Mengapa ia berkesan dalam proses pengeluaran
Anda memerlukan haba yang dapat memberikan pemanasan yang cepat tanpa menyebabkan suhu melebihi batas yang ditetapkan. NIR membolehkan pemanasan yang cepat dengan kawalan yang tepat, sehingga masa pemanasan berkurangan dan kelajuan pengeluaran meningkat. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana pemancar menyentuh wafer dan substrat secara langsung, bukan dinding ruang pengeringan. Dalam proses pemprosesan fotoresist, ini membolehkan kawalan dimensi yang lebih tepat dan pengurangan keperluan untuk memproses semula. Dalam proses pembungkusan pula, ia membantu mengeringkan cecair yang berlebihan dan menghilangkan kelembapan tanpa menyebabkan wafer bengkok. Keserasian dengan bilik bersih pula memastikan jumlah zarah diminimumkan – sesuatu yang sangat penting untuk proses pengeluaran yang canggih.
Beberapa nota praktikal
Unit ini memerlukan bekalan kuasa yang stabil dan bersih, serta saluran udara yang kering untuk memastikan jendela optik tetap bersih. Masa pemanasan adalah singkat, tetapi proses pengeringan hanya boleh dimulakan setelah 10 minit pencapaian suhu yang stabil. Walaupun saiznya kecil, masih diperlukan ruang yang cukup di sekitar kawasan pemancar untuk tujuan keselamatan dan pengeluaran gas buangan. Pastikan spektrum pemancar sesuai dengan jenis fotoresist dan substrat yang digunakan. Pasukan kami boleh membantu menyesuaikan proses pengeluaran agar sesuai dengan keperluan anda.