<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>200mm on Factory Direct Infrared Heating</title>
		<link>http://infrared-heat-direct.com/ja/tags/200mm/</link>
		<description>Recent content in 200mm on Factory Direct Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infrared-heat-direct.com/ja/tags/200mm/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ウェーハ乾燥モジュール 200mm</title>
				<link>http://infrared-heat-direct.com/ja/posts/wafer-drying-module-200mm/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800</pubDate>
				<guid>http://infrared-heat-direct.com/ja/posts/wafer-drying-module-200mm/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;ウェーハ乾燥モジュール 200mm&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;200mmウェーハの処理において、1回の湿式処理だけで生産性が損なわれることがあります。洗浄後に残った水分はフォトレジスト上に水痕として現れ、その後の軟質ベイク処理によって重要な&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;寸法&lt;/a&gt;制御が不安定になります。これはオペレーターの手動調整では対処できず、シフトを重ねても同じように&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;機能&lt;/a&gt;する乾燥モジュールが必要です。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
