http://infrared-heat-direct.com/ja/tags/%E3%83%A2%E3%82%B8%E3%83%A5%E3%83%BC%E3%83%AB/ Recent content in モジュール on Factory Direct Infrared Heating Hugo ja Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800 http://infrared-heat-direct.com/ja/posts/wafer-drying-module-200mm/ Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800 http://infrared-heat-direct.com/ja/posts/wafer-drying-module-200mm/ <p><img src="http://infrared-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="ウェーハ乾燥モジュール 200mm"></p> <p>200mmウェーハの処理において、1回の湿式処理だけで生産性が損なわれることがあります。洗浄後に残った水分はフォトレジスト上に水痕として現れ、その後の軟質ベイク処理によって重要な<a href="https://o-yate.net">寸法</a>制御が不安定になります。これはオペレーターの手動調整では対処できず、シフトを重ねても同じように<a href="https://goldisgood.com">機能</a>する乾燥モジュールが必要です。</p> http://infrared-heat-direct.com/ja/posts/zoned-infrared-heating-module/ Tue, 23 Jun 2026 00:11:51 +0800 http://infrared-heat-direct.com/ja/posts/zoned-infrared-heating-module/ <p><img src="http://infrared-heat-direct.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="ゾーン別赤外線ヒーティングモジュール"></p> <p>製造現場では、よく知られている通り、焼成<a href="https://o-yate.net">温度</a>が0.2℃だけ変動しても、フォトレジストの特性は規定値から外れてしまいます。従来のホットプレートでは、ウェハ表面の温度分布の不均一さを解消するのが難しく、そのため制御範囲を厳しく設定し、常に温度の安定を図らなければなりません。私たちは、このような不安定性を解消するために、ウェハ表面に直接作用するゾーン<a href="https://goldisgood.com">制御型</a>の赤外線加熱モジュールを開発しました。</p> <p><strong>重要なのは内部構造です</strong><br> 独立したループ制御を持つ短波長赤外線を利用することで、ウェハ表面の温度を±0.1℃の精度で一定に保つことができます。温度は数秒で安定するため、熱的な遷移時間が短縮され、より厳格なプロセス管理が可能になります。この装置はクラス1～100の清浄室で使用でき、粒子の発生もありません。これは、リアルタイム監視や低ガス放出設計によって確認されています。稼働時間は24時間365日であり、信頼性も半導体装置として期待される水準です。</p>