Lampada per essiccazione dei wafer 300mm

Fri, 03 Jul 2026 08:59:49 +0800

Nella linea da 300 mm, il dispositivo di essiccazione non è semplicemente un elemento utile, ma è piuttosto un elemento fondamentale: rappresenta l’ultimo punto di controllo termico prima che i wafer vengano inviati verso la fase di produzione. Anche una piccola variazione di temperatura durante il processo di essiccazione del fotoresisto, oppure la presenza di particelle generate da una lampada invecchiata, possono rovinare l’intero processo di litografia. Abbiamo progettato questa lampada tenendo conto di un requisito fondamentale: mantenere la temperatura del wafer entro valori compresi tra ±0,1 °C, senza causare alcuna contaminazione.

Modulo di essiccazione dei wafer 200mm

Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800

Su una linea da 200 mm, una singola fase di essiccazione errata può compromettere notevolmente la qualità del prodotto finito. L’acqua rimasta dopo la pulizia si manifesta come “impronte” sulla superficie del fotoreostante; inoltre, il processo di essiccazione può causare variazioni nelle dimensioni critiche del prodotto, portandole al di fuori dei limiti consentiti. Non è possibile compensare questi problemi semplicemente regolando i parametri di funzionamento della macchina: ciò che serve è un modulo di essiccazione in grado di funzionare in modo affidabile, shift dopo shift.

Wafer on Factory Direct Infrared Heating

Lampada per essiccazione dei wafer 300mm

Modulo di essiccazione dei wafer 200mm