Lampada allogena per sistema RTP

Thu, 18 Jun 2026 04:26:30 +0800

Nelle linee di produzione, le variazioni di temperatura non sono un problema trascurabile. Una variazione di 5°C durante i processi di riscaldamento del fotoresiste può compromettere il controllo delle dimensioni dei componenti elettronici; inoltre, una distribuzione non uniforme della temperatura durante il processo RTP può distruggere i profili dei giunti elettrici. Abbiamo progettato le nostre lampade ad azoto per eliminare tali variabili.

Ciò che davvero conta
Queste lampade utilizzano emettitori ad azoto a lunghezza d’onda corta, racchiusi in un involucro di quarzo. Questo permette un riscaldamento rapido e efficiente, con tempi di risposta inferiori ai secondi. L’aspetto fondamentale è l’uniformità termica: ±0,1°C su tutta la superficie del wafer, misurata direttamente sul campo – non stimata. La compatibilità con le sale pulite è garantita grazie all’uso di materiali conformi alle norme Class 1–100, interfacce sigillate e sistemi che riducono al minimo il rilascio di gas. Il risultato è l’assenza di particelle generate, quindi il rendimento produttivo non viene compromesso dai cicli termici.

Sistema on Factory Direct Infrared Heating

Lampada allogena per sistema RTP