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		<title>LPCVD on Factory Direct Infrared Heating</title>
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				<title>Elemento riscaldante per forno LPCVD</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-direct.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Elemento riscaldante per forno LPCVD&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sulla linea di produzione, la deriva termica del forno non è solo un numero sul display. Si manifesta come spostamenti critici delle dimensioni e profili di drogaggio &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;alterati&lt;/a&gt; su tutto il wafer. Una singola zona calda fuori specifica significa inseguire perdite di resa causate da variabilità nella cottura del photoresist e tensioni nei film che non si ripetono mai allo stesso modo.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h2 id=&#34;cosa-conta-tecnicamente&#34;&gt;Cosa conta, tecnicamente&lt;/h2&gt;&#xA;&lt;p&gt;L’elemento riscaldante del &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;nostro&lt;/a&gt; forno LPCVD è progettato attorno a un controllo ripetibile della temperatura, con l’obiettivo di uniformità termica a livello wafer entro ±0.1°C su tutto il carico. Il design della zona calda mantiene i gradienti ridotti e garantisce il budget termico su cui si basa la ricetta di processo.&lt;/p&gt;</description>
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