Lampada per essiccazione dei wafer 300mm

Fri, 03 Jul 2026 08:59:49 +0800

Nella linea da 300 mm, il dispositivo di essiccazione non è semplicemente un elemento utile, ma è piuttosto un elemento fondamentale: rappresenta l’ultimo punto di controllo termico prima che i wafer vengano inviati verso la fase di produzione. Anche una piccola variazione di temperatura durante il processo di essiccazione del fotoresisto, oppure la presenza di particelle generate da una lampada invecchiata, possono rovinare l’intero processo di litografia. Abbiamo progettato questa lampada tenendo conto di un requisito fondamentale: mantenere la temperatura del wafer entro valori compresi tra ±0,1 °C, senza causare alcuna contaminazione.

Essiccazione on Factory Direct Infrared Heating

Lampada per essiccazione dei wafer 300mm