Modul pengeringan wafer berukuran 200 mm

Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800

Pada line produksi berukuran 200 mm, satu langkah proses yang tidak tepat saja sudah cukup untuk merusak kualitas produk yang dihasilkan. Air yang tersisa setelah proses pembersihan akan meninggalkan noda pada lapisan fotoresist. Selain itu, proses pengeringan yang tidak tepat juga dapat mengacaukan kontrol dimensi penting dari produk tersebut. Hal ini tidak dapat diperbaiki hanya dengan penyesuaian kecil oleh operator; yang dibutuhkan adalah modul pengeringan yang mampu bekerja secara konsisten dari satu shift ke shift berikutnya.

Apa yang penting dalam modul pengeringan ini? Modul pengeringan wafer berukuran 200 mm kami dirancang dengan memperhatikan kontrol suhu yang akurat dan pengendalian kontaminasi. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer dipertahankan pada kisaran ±0,1°C, sehingga proses pengeringan tetap konsisten dari satu batch ke batch berikutnya. Sistem ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dan dirancang agar tidak menghasilkan partikel apa pun, sehingga memenuhi standar jumlah partikel yang sangat rendah yang ditetapkan dalam proses litografi. Dalam operasi 24/7, sistem ini dirancang agar tidak ada downtime yang tidak terduga, dengan masa pakai yang mencapai puluhan ribu jam. Reputabilitas sistem ini sangat tinggi—itu merupakan standar yang harus dipenuhi.

Modul pemanas inframerah berdasarkan zonasi

Tue, 23 Jun 2026 00:11:51 +0800

Di lantai produksi, Anda pasti tahu aturannya: perubahan suhu selama proses pembakaran sebesar 0,2°C saja sudah cukup untuk membuat kualitas fotoresist menjadi tidak memenuhi standar, sehingga harus dibuang. Pemanas konvensional tidak mampu mengatasi masalah ketidakteraturan suhu di permukaan wafer, sehingga diperlukan pengendalian yang lebih ketat. Kami merancang modul pemanas inframerah berbasis zona ini untuk menghilangkan variasi suhu tersebut, tepatnya di permukaan wafer itu sendiri.

Apa yang penting? Inframerah panjang gelombang dengan kontrol zona yang independen dan terkontrol dengan baik memungkinkan terciptanya keseragaman suhu sebesar ±0,1°C di permukaan fotoresist. Suhu dapat mencapai keseimbangan dalam waktu beberapa detik saja, sehingga waktu pemanasan menjadi lebih singkat dan batas-batas proses pun menjadi lebih ketat. Modul ini dapat digunakan di ruang bersih kelas 1–100, tanpa menghasilkan partikel apa pun, sebagaimana dibuktikan melalui pemantauan secara real-time dan desain yang mengurangi emisi gas. Modul ini dapat beroperasi 24/7, dengan masa pakai yang sesuai dengan harapan kita semua terhadap peralatan semikonduktor.

Modul on Factory Direct Infrared Heating

Modul pengeringan wafer berukuran 200 mm

Modul pemanas inframerah berdasarkan zonasi