<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>300mm on Factory Direct Infrared Heating</title>
		<link>http://infrared-heat-direct.com/id/tags/300mm/</link>
		<description>Recent content in 300mm on Factory Direct Infrared Heating</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 03 Jul 2026 08:59:50 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://infrared-heat-direct.com/id/tags/300mm/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pengering wafer 300mm</title>
				<link>http://infrared-heat-direct.com/id/posts/wafer-drying-lamp-300mm/</link>
				<pubDate>Fri, 03 Jul 2026 08:59:50 +0800</pubDate>
				<guid>http://infrared-heat-direct.com/id/posts/wafer-drying-lamp-300mm/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://infrared-heat-direct.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Lampu pengering wafer 300mm&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada lini produksi berukuran 300 mm, alat pengering ini bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan. Alat ini merupakan titik pemeriksaan termal terakhir sebelum wafer siap diproses lebih lanjut. Sedikit saja ketidakteraturan suhu selama proses pemanasan fotorezist, atau adanya partikel dari bohlam yang sudah usang, dapat menyebabkan hasil pemrosesan menjadi tidak berkualitas. Kami merancang alat pengering wafer ini dengan memperhatikan satu syarat penting: menjaga suhu wafer tetap dalam kisaran ±0,1°C, tanpa adanya kontaminasi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dalam desainnya?&lt;/strong&gt;&#xA;Kami menggunakan emitor inframerah berpanjang gelombang pendek yang dirancang untuk memberikan pemanasan yang cepat dan tepat sasaran. Dengan demikian, suhu dapat mencapai nilai yang ditentukan tanpa penundaan. Jendela kuarsa yang dikhususkan untuk proses 300 mm, serta geometri reflektor yang tepat, membantu menciptakan distribusi panas yang merata di seluruh permukaan wafer. Hal ini mengurangi perbedaan suhu antara bagian tepi dan tengah wafer, sehingga menghindari &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;variasi&lt;/a&gt; dimensi yang tidak diinginkan. Sistem ini juga dirancang untuk digunakan di lingkungan cleanroom, dengan bahan-bahan berkualitas tinggi dan sistem penyegel yang efektif. Selain itu, sistem ini dirancang agar tidak menghasilkan partikel sama sekali. Kontrol berbasis loop tertutup memastikan agar hasil pemrosesan tetap konsisten, sehingga setiap wafer mendapatkan perlakuan yang sama, dari satu shift ke shift berikutnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
