एलपीसीवीडी भट्टी हीटिंग तत्व

Mon, 08 Jun 2026 05:12:05 +0800

फैब फ्लोर पर, भट्टी की तापीय ड्रिफ्ट केवल डिस्प्ले पर एक संख्या नहीं है। यह महत्वपूर्ण आयामों में बदलाव और वेफर के पार दूषित प्रोफाइल के रूप में प्रकट होती है। एक गर्म क्षेत्र जो सही नहीं है, और आप फोटोरेसिस्ट बेक विविधता और फिल्म तनाव के माध्यम से उपज हानि का पीछा कर रहे हैं जो कभी एक ही तरीके से नहीं मिलती।

तकनीकी रूप से क्या मायने रखता है

हमारा LPCVD भट्टी का हीटिंग तत्व दोहराने योग्य तापमान नियंत्रण के चारों ओर निर्मित है, जिसका लक्ष्य लोड के बीच ±0.1°C के भीतर वेफर स्तर पर तापीय समानता है। गर्म क्षेत्र का डिज़ाइन ग्रेडिएंट्स को नीचे रखता है और उस तापीय बजट को लॉक करता है जिस पर आपकी प्रक्रिया नुस्खा निर्भर करती है।

अल्ट्रा शुद्ध जल हीटिंग लैंप

Wed, 03 Jun 2026 12:27:48 +0800

फैब फ्लोर पर, फोटोरेसिस्ट बेक केवल पीक तापमान के बारे में नहीं है। यह वेफर पर तापीय समानता के बारे में है। 0.5°C का विचलन CD बायस को प्रभावित कर सकता है और यील्ड को स्पेक से बाहर ले जा सकता है। हमने अपना अल्ट्रा प्योर वाटर हीटिंग लैंप इस तरह बनाया है कि थर्मल प्रोफाइल स्थिर रहे जहाँ यह महत्वपूर्ण है—रेसिस्ट पर, पूरे सतह पर, साइकिल दर साइकिल।

तकनीकी रूप से जो महत्वपूर्ण है वह है नियंत्रण। हम क्वार्ट्ज एनवेलप में एक शॉर्ट-वेव हैलोजन एमिटर का उपयोग करते हैं, जो कम थर्मल मास ज्यामिति के साथ जोड़ा गया है। इससे आपको त्वरित, दिशात्मक हीटिंग मिलती है जिसमें सब-सेकंड प्रतिक्रिया समय होता है। इसका परिणाम है वेफर-स्तर की समानता ±0.1°C के भीतर और रन-टू-रन पुनरावृत्ति 0.05°C के भीतर।

तापन on Factory Direct Infrared Heating

एलपीसीवीडी भट्टी हीटिंग तत्व

तकनीकी रूप से क्या मायने रखता है

अल्ट्रा शुद्ध जल हीटिंग लैंप