Séchage on Factory Direct Infrared Heating

Chauffage de séchage de la feuille de capteur MEMS

Thu, 23 Jul 2026 12:01:58 +0800

Une façon plus efficace de sécher les waffers de capteurs MEMS
Si vous avez déjà eu affaire à des waffers de capteurs MEMS, vous savez à quel point c’est difficile. Il faut éliminer l’eau le plus rapidement possible – mais on ne peut pas se permettre que des marques d’eau apparaissent ou que des contraintes thermiques endommagent toute la série de waffers.

Pendant longtemps, on utilisait des fours à convection. Mais honnêtement, c’était une perte de temps et d’énergie. Il fallait chauffer toute la chambre juste pour sécher quelques waffers. C’était lent, coûteux, et cela ne correspondait pas aux objectifs des « usines vertes » que nous cherchons tous à atteindre aujourd’hui.

Audit énergétique pour le séchage en usine

Thu, 09 Jul 2026 04:00:09 +0800

Audit énergétique pour le séchage en usine : pourquoi les rayons infrarouges directionnels sont efficaces
parlons du séchage en usine. Il est essentiel d’avoir précision, point final. La méthode traditionnelle – le chauffage par convection – réchauffe toute la chambre, y compris les murs et les composants situés autour de la pièce à sécher. C’est comme chauffer toute la cuisine juste pour toaster une tranche de pain.
Nous avons donc développé une méthode meilleure : les rayons infrarouges directionnels.
L’élément clé de ce système est une lampe à rayons infrarouges à ondes courtes, qui dispense la chaleur exactement là où elle est nécessaire. Plus d’énergie gaspillée. Plus de risque que l’équipement surchauffe. Ce système fonctionne de manière efficace et ciblée.

Lampe de séchage de wafer 300 mm

Fri, 03 Jul 2026 08:59:49 +0800

Sur la ligne de production de 300 mm, le séchoir n’est pas un accessoire optionnel : c’est plutôt le dernier étape de traitement thermique avant que les wafers ne sortent de l’usine. Quelques degrés d’inhomégenité pendant le séchage du photorésistant, ou encore des particules émises par une lampe vieillissante, suffisent pour que le processus de lithographie devienne inefficace. Nous avons conçu notre lampe de séchage en tenant compte d’un critère essentiel : maintenir la température du wafer à ±0,1 °C, sans introduire de contamination.

Module de séchage de wafer 200 mm

Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800

Sur une ligne de production de 200 mm, une seule étape de séchage insuffisante peut entraîner une perte significative de rendement. L’eau restée après le nettoyage se manifeste sous forme de taches sur le photorésistant ; de plus, les températures élevées durant le séchage perturbent le contrôle des dimensions critiques. On ne peut pas compenser cela par de simples ajustements de la part de l’opérateur – ce dont on a besoin, c’est d’un module de séchage qui fonctionne de manière fiable, étape après étape.