در کارخانههای تولید، نوسانات دمایی امری بیاهمیت نیستند. تغییر دما به میزان ۵ درجه سانتیگراد در حین فرآیندهای پخت نرم یا سخت فوتورزیست، میتواند کنترل ضخامت لایههای روی ویفر را از بین ببرد؛ همچنین، نوسانات دمایی در فرآیند RTP میتواند باعث اختلال در ساختار لایههای روی ویفر شود. ما لامپهای هالوژنی مخصوص فرآیند RTP را طوری طراحی کردهایم که این نوسانات را از بین ببرند.
آنچه واقعاً اهمیت دارد:
این لامپها از منابع تابشی کوتاهامواج درون پوشش کوارتزی استفاده میکنند؛ بنابراین گرمایش سریع و کارآمدی ایجاد میشود. معیار مهم، یکنواختی دمایی است؛ یعنی تغییر دما در سراسر ویفر باید در حد ±۰.۱ درجه سانتیگراد باشد. همچنین، این لامپها با شرایط محیطهای پاک سازگار هستند؛ مواد مورد استفاده مطابق استانداردهای کلاس ۱ تا ۱۰۰ هستند، روابط اتصالی نیز بسته هستند و راهی برای کاهش گازهای خروجی وجود دارد. نتیجه این کار، عدم تولید هیچ ذرهای است؛ بنابراین بازدهی تولیدی کاهش نمییابد.
چرا این موضوع در فرآیندهای لیتوگرافی و فوتورزیست اهمیت دارد:
دما، عامل تعیینکننده ابعاد حیاتی در لیتوگرافی است. با کنترل دما در حد ±۰.۱ درجه سانتیگراد، فرآیندهای پخت نرم و سخت به درستی انجام میشوند و تکرارپذیری فرآیندها حفظ میگردد. در فرآیند RTP، سرعت بالای گرم شدن و یکنواختی دما، از آسیب رسیدن به لایههای نازک جلوگیری میکند. در نتیجه، توزیع دما بهتر میشود، تعداد کارهای بازسازی کمتر میشود و زمان انجام فرآیندها پایدار میماند. کارایی لامپها نیز مهم است؛ چرا که انتقال تابش و چرخههای کاری دقیق، مصرف انرژی را کاهش میدهد.
آنچه برای نصب صحیح لامپ لازم است:
باید به جریان سیال خنککننده، قطبیت آن و گشتاور نصب لامپ توجه کرد؛ زیرا این عوامل باعث حفظ سلامت روابط اتصالی و تنظیم دقیق موقعیت لامپ میشوند. این لامپها با محفظههای استاندارد RTP سازگار هستند؛ اما شکل منعکسکنندههای نوری باید با ناحیههای گرم مورد نظر هماهنگ باشد. همچنین، باید پس از ۲۰۰۰ ساعت کار، تنظیمات لامپ را انجام داد؛ زیرا تغییرات کوچکی در خروجی لامپ وجود دارد. ما این موضوع را در نظر گرفتهایم و زمان لازم برای تنظیمات را مشخص کردهایم.