Trocknen on Factory Direct Infrared Heating

Heizgerät zum Trocknen von MEMS Sensorechips

Thu, 23 Jul 2026 12:01:58 +0800

Eine bessere Methode zur Trocknung von MEMS-Sensorwafern
Wenn Sie schon einmal mit MEMS-Sensorwafern zu tun hatten, wissen Sie, wie schwierig das sein kann. Man muss das Wasser so schnell wie möglich entfernen – doch man darf keine Wasserreste oder thermische Belastungen riskieren, die dazu führen könnten, dass die Wafern beschädigt werden.

Lange Zeit wurde dazu konvektive Öfen verwendet. Aber ehrlich gesagt: Das ist eine Verschwendung. Man heizt schließlich den ganzen Ofen nur dafür auf, ein paar Wafern trocknen zu können. Das ist langsam, teuer – und entspricht auch nicht den Zielen einer „grünen Fabrik“, nach denen wir alle streben.

Energieprüfung für die Trocknungsanlage

Thu, 09 Jul 2026 04:00:09 +0800

Energieauditt für die Trocknung in der Fertigung: Warum direktes Infrarotlicht die beste Lösung ist
Lassen Sie uns über die Trocknung in der Fertigung sprechen. Hier ist Präzision unerlässlich – Punkt. Die herkömmliche Methode, nämlich Konvektionsheizung, erwärmt den gesamten Raum, einschließlich der Wände und der Geräte in der Nähe des zu trocknenden Objekts. Das ist, als würde man die ganze Küche zum Aufwärmen eines Brotes nutzen.

Deshalb haben wir eine bessere Lösung entwickelt: direktes Infrarotlicht.
Das Herzstück dieser Lösung ist eine Kurzwellen-Infrarotlampe, die die Wärme genau dorthin leitet, wo sie benötigt wird. Keine Energieverschwendung mehr – auch die Geräte werden nicht übermäßig heiß. So wird die Aufgabe effizient und präzise erledigt.

Wafer Trocknungslampe 300 mm

Fri, 03 Jul 2026 08:59:49 +0800

In der 300-mm-Linie ist der Trockner nicht nur praktisch – er ist vielmehr eine notwendige Komponente. Er stellt die letzte „Thermische Kontrollstelle“ dar, bevor die Wafern das Werk verlassen. Einige Grad an Ungleichmäßigkeit während des Trocknungsprozesses oder Partikel, die von einer alternden Lampe stammen, können dazu führen, dass die Lithografie-Prozesse fehlschlagen. Unsere Waftentrocknungsleuchten wurden unter Berücksichtigung eines einzigen strengen Kriteriums entwickelt: Der Wafer muss bei einer Temperatur von ±0,1°C gehalten werden – ohne dass es zu Verunreinigungen kommt.

Wafer Trocknungsmodul 200 mm

Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800

Auf einer 200-mm-Linie kann bereits ein einziger feuchter Bearbeitungsschritt dazu führen, dass die Qualität der Produkte beeinträchtigt wird. Das nach der Reinigung zurückbleibende Wasser hinterlässt Spuren auf dem Photoresist. Zudem führt eine zu sanfte Trocknung dazu, dass die Kontrolle der kritischen Abmessungen nicht mehr gewährleistet ist. Man kann das Problem nicht einfach mit Anpassungen durch den Bediener beheben – es wird ein Trockenungsmodul benötigt, das stets zuverlässig funktioniert, unabhängig von den verschiedenen Produktionszyklen.

Was wirklich wichtig ist
Unser Trockenungsmodul für 200-mm-Wafern basiert auf einer kontrollierten Wärmeabgabe sowie einer effektiven Kontrolle von Verunreinigungen. Die Temperaturgleichmäßigkeit auf der gesamten Oberfläche des Wafer wird bei ±0,1°C gehalten. Dadurch bleiben die Trocknungsparameter von Charge zu Charge konstant. Das System eignet sich für Reinräume der Klassen 1–100 und ist so konzipiert, dass keine Partikel entstehen – was wiederum den hohen Anforderungen an die Partikelfallzahlen in der Lithografie entspricht. Bei 24/7-Betrieb soll es zu keiner unplanmäßigen Stillstand kommen; die Lebensdauer des Moduls beträgt Tausende von Stunden. Die Wiederholgenauigkeit ist selbstverständlich – sie gilt als Grundvoraussetzung.