Wafer Trocknungsmodul 200 mm

Thu, 25 Jun 2026 04:52:17 +0800

Auf einer 200-mm-Linie kann bereits ein einziger feuchter Bearbeitungsschritt dazu führen, dass die Qualität der Produkte beeinträchtigt wird. Das nach der Reinigung zurückbleibende Wasser hinterlässt Spuren auf dem Photoresist. Zudem führt eine zu sanfte Trocknung dazu, dass die Kontrolle der kritischen Abmessungen nicht mehr gewährleistet ist. Man kann das Problem nicht einfach mit Anpassungen durch den Bediener beheben – es wird ein Trockenungsmodul benötigt, das stets zuverlässig funktioniert, unabhängig von den verschiedenen Produktionszyklen.

Was wirklich wichtig ist
Unser Trockenungsmodul für 200-mm-Wafern basiert auf einer kontrollierten Wärmeabgabe sowie einer effektiven Kontrolle von Verunreinigungen. Die Temperaturgleichmäßigkeit auf der gesamten Oberfläche des Wafer wird bei ±0,1°C gehalten. Dadurch bleiben die Trocknungsparameter von Charge zu Charge konstant. Das System eignet sich für Reinräume der Klassen 1–100 und ist so konzipiert, dass keine Partikel entstehen – was wiederum den hohen Anforderungen an die Partikelfallzahlen in der Lithografie entspricht. Bei 24/7-Betrieb soll es zu keiner unplanmäßigen Stillstand kommen; die Lebensdauer des Moduls beträgt Tausende von Stunden. Die Wiederholgenauigkeit ist selbstverständlich – sie gilt als Grundvoraussetzung.

Gebietsbezogener Infrarot Heizmodul

Tue, 23 Jun 2026 00:11:51 +0800

In der Fertigungshalle gilt folgendes Prinzip: Schon eine Abweichung von 0,2 °C in der Backtemperatur führt dazu, dass das Profil des Fotorezystors nicht mehr den Anforderungen entspricht und somit als unbrauchbar gilt. Herkömmliche Heizplatten können diese Ungleichheiten nur bedingt ausgleichen – dadurch müssen die Kontrollgrenzen verschärft werden. Wir haben daher ein zonales Infrarotheizmodul entwickelt, das genau dort für Gleichmäßigkeit sorgt, wo es wirklich wichtig ist – nämlich auf der Oberfläche des Wafers.

Was wirklich zählt:
Kurzwelliges Infrarotlicht in Kombination mit einer unabhängigen, geschlossenen Regelungsschleife ermöglicht eine Gleichmäßigkeit der Temperatur auf der Oberfläche des Wafers von ±0,1 °C. Die Temperatur erreicht bereits nach wenigen Sekunden ihren Endwert – Dadurch verkürzt sich die Zeit bis zur Vollendung des Prozesses, und es entstehen weniger Fehler. Das Modul funktioniert in Reinräumen der Klasse 1–100, ohne dass Partikel entstehen. Die Betriebszeit beträgt 24/7, und die durchschnittliche Ausfallzeit entspricht den Erwartungen an Halbleiterausrüstung.

Modul on Factory Direct Infrared Heating

Wafer Trocknungsmodul 200 mm

Gebietsbezogener Infrarot Heizmodul