Gebietsbezogener Infrarot Heizmodul

Tue, 23 Jun 2026 00:11:51 +0800

In der Fertigungshalle gilt folgendes Prinzip: Schon eine Abweichung von 0,2 °C in der Backtemperatur führt dazu, dass das Profil des Fotorezystors nicht mehr den Anforderungen entspricht und somit als unbrauchbar gilt. Herkömmliche Heizplatten können diese Ungleichheiten nur bedingt ausgleichen – dadurch müssen die Kontrollgrenzen verschärft werden. Wir haben daher ein zonales Infrarotheizmodul entwickelt, das genau dort für Gleichmäßigkeit sorgt, wo es wirklich wichtig ist – nämlich auf der Oberfläche des Wafers.

Was wirklich zählt:
Kurzwelliges Infrarotlicht in Kombination mit einer unabhängigen, geschlossenen Regelungsschleife ermöglicht eine Gleichmäßigkeit der Temperatur auf der Oberfläche des Wafers von ±0,1 °C. Die Temperatur erreicht bereits nach wenigen Sekunden ihren Endwert – Dadurch verkürzt sich die Zeit bis zur Vollendung des Prozesses, und es entstehen weniger Fehler. Das Modul funktioniert in Reinräumen der Klasse 1–100, ohne dass Partikel entstehen. Die Betriebszeit beträgt 24/7, und die durchschnittliche Ausfallzeit entspricht den Erwartungen an Halbleiterausrüstung.

Heizen on Factory Direct Infrared Heating

Gebietsbezogener Infrarot Heizmodul