Fotoresist Trocknungslampe

Wed, 17 Jun 2026 15:59:33 +0800

Auf der Lithografiestraße ist man mit solchen Problemen vertraut: Eine leichte Erwärmung des Photolacks kann bereits dazu führen, dass die Kontrolle über die kritischen Abmessungen beeinträchtigt wird. Zudem entstehen Unreinheiten – und niemand hat Zeit für das Beheben dieser Probleme. In der Zwischenzeit warten die Wafer darauf, bearbeitet zu werden – doch dadurch wird die verfügbare Energie schnell aufgebraucht. Wir haben unsere Lampen so konstruiert, dass sie nicht mehr am Limit arbeiten müssen.

Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden Halogenquarzlampen mit kurzwelligem Licht und NIR-Emissionen. Dadurch wird die Energie direkt in den Photolack geleitet. Dadurch wird eine präzise Steuerung der Temperatur möglich – und die Homogenität der Wafer liegt bei ±0,1°C über einer Fläche von 300 mm. Das System arbeitet in Reinräumen der Klasse 1–100 – und es entstehen keine Partikel, dank der kontinuierlichen Überwachung sowie eines luftdichten Designs. Die Reproduzierbarkeit bleibt auch unter Berücksichtigung verschiedener Chargen, Schichten und Alter der Lampen konstant. In Produktionslinien mit hohem Durchsatz kann das System 24/7 betrieben werden, ohne dass es zu unplanmäßigen Stillständen kommt.

Backen on Factory Direct Infrared Heating

Fotoresist Trocknungslampe