Auf der Lithografiestraße ist man mit solchen Problemen vertraut: Eine leichte Erwärmung des Photolacks kann bereits dazu führen, dass die Kontrolle über die kritischen Abmessungen beeinträchtigt wird. Zudem entstehen Unreinheiten – und niemand hat Zeit für das Beheben dieser Probleme. In der Zwischenzeit warten die Wafer darauf, bearbeitet zu werden – doch dadurch wird die verfügbare Energie schnell aufgebraucht. Wir haben unsere Lampen so konstruiert, dass sie nicht mehr am Limit arbeiten müssen.
Was technisch wichtig ist:
Wir verwenden Halogenquarzlampen mit kurzwelligem Licht und NIR-Emissionen. Dadurch wird die Energie direkt in den Photolack geleitet. Dadurch wird eine präzise Steuerung der Temperatur möglich – und die Homogenität der Wafer liegt bei ±0,1°C über einer Fläche von 300 mm. Das System arbeitet in Reinräumen der Klasse 1–100 – und es entstehen keine Partikel, dank der kontinuierlichen Überwachung sowie eines luftdichten Designs. Die Reproduzierbarkeit bleibt auch unter Berücksichtigung verschiedener Chargen, Schichten und Alter der Lampen konstant. In Produktionslinien mit hohem Durchsatz kann das System 24/7 betrieben werden, ohne dass es zu unplanmäßigen Stillständen kommt.
Der Grund, warum dieses System sowohl bei sanfter als auch bei intensiver Erwärmung funktioniert, ist einfach: Die Genauigkeit der Temperatur bestimmt das Verhalten des Photolacks, seine Haftung sowie die Selektivität beim Ätzen. Dadurch verkürzt sich die Bearbeitungszeit – und die Linienbreite bleibt stabil. Zudem wird weniger Energie verbraucht, da die Wärme direkt in den Photolack geleitet wird – anstatt die Kammer zu erwärmen. Auch die Wartungsfrequenzen nehmen ab, da die Lampenkonstruktion Hitzpunkte sowie damit verbundene thermische Belastungen vermeidet. Das Ergebnis sind höhere Erträge, weniger Wiederarbeiten und planbare Zykluszeiten.
Hier sind ein paar Punkte, die man beachten sollte: Diese Lampen benötigen saubere, trockene Luft oder Stickstoff zur Vermeidung von Kondensaten im Quarzkörper sowie zur Aufrechterhaltung der spektralen Stabilität. Sie können mit Standard-OEM-Systemen kombiniert werden – doch die Integration muss der genauen thermischen Masse des Chucks sowie der Geometrie der Bearbeitungsstation entsprechen. Planen Sie während der Qualifizierung eine kurze Anpassung der Heizezeit ein – gerade genug, um die gewünschte Homogenität zu erreichen.