Na linii produkcyjnej wszystko jest jasne: choć temperatura pieczenia zmieni się o zaledwie 0,2°C, to profil właściwości fotorezystu zmienia się od wartości spełniających normy na takie, które sprawiają problemy. Tradycyjne elementy grzewcze nie radzą sobie z problemem nierównomierności temperatury na powierzchni płytki, więc trzeba ściśle kontrolować parametry procesu. Stworzyliśmy moduł grzewczy oparty na technologii podczerwieni, który eliminuje te wahania w procesach cieplnego obróbki płytek – dokładnie w tym miejscu, gdzie to ma znaczenie, czyli na samym powierzchni płytki.
Co jest ważne? Podczerwień krótkofalowa z niezależną kontrolą poszczególnych stref zapewnia jednolitość temperatury na poziomie ±0,1°C na powierzchni fotorezystu. Temperatura ustala się w ciągu kilku sekund, co skraca czas obróbki i umożliwia bardziej precyzyjną kontrolę procesu. Moduł może pracować w pomieszczeniach klasy 1–100 bez żadnego wytworzenia cząstek, co potwierdza monitoring w miejscu oraz konstrukcja modułu minimalizująca emisję gazów. Czas pracy modułu wynosi 24/7, a jego niezawodność odpowiada naszym oczekiwaniom dotyczącym sprzętu do produkcji półprzewodników.
Dlaczego ten moduł sprawdza się w litografii? Ponieważ powtarzalność procesu grzewczego wpływa na precyzję wymiarów półprzewodników. Dzięki zonowemu ogrzewaniu zmniejsza się zmienność temperatury, dzięki czemu procesy cieplnej obróbki są spójne niezależnie od partii produktów, płytek oraz zmian w produkcji. To oznacza mniej przeróbek, mniej odpadów i stabilne parametry produktów. Użytek energii również maleje, ponieważ moduł grzeje tylko określone strefy, minimalizując oddziaływanie ciepła na sąsiednie elementy urządzenia.
Instalacja wymaga czystej, płaskiej powierzchni montażowej oraz wystarczającej ilości przestrzeni dla elementów emitujących promieniowanie podczerwone. Komplety do modyfikacji pasują do standardowych uchwytów, ale konstrukcja samego modułu różni się w zależności od platformy. Aby osiągnąć jednolitość temperatury na poziomie ±0,1°C, moduł musi zostać skalibrowany pod kątem specyfiki fotorezystu – dostarczamy procedury do tego celu. Gdy moduł jest już ustawiony, proces pozostaje stabilny, ale jeśli zmienisz skład fotorezystu, konieczna będzie ponowna kalibracja.