Op de productielijn geldt hetzelfde principe: een afwijking van 0,2°C in de baktemperatuur zorgt er al voor dat het profiel van de fotoresist niet meer voldoet aan de vereisten en de resist als afval moet worden beschouwd. Conventionele warmtebronnen helpen nauwelijks bij het tegengaan van oneffenheden op het oppervlak van de chip. Hierdoor moet men de controleparameters strakker houden om deze oneffenheden te compenseren. Wij hebben een gezoneerd infraroodsysteem ontwikkeld dat deze variabiliteit elimineert – rechtstreeks op het oppervlak van de chip.
Wat er echt toe doet Kortegolf-infraroodlicht met onafhankelijke zonecontrole zorgt voor een uniformiteit van ±0,1°C op het oppervlak van de resist. De temperatuur bereikt snel zijn evenwicht, waardoor de tijd die nodig is voor het opwarmen van de chip verkort wordt. Dit zorgt voor nauwkeurigere procesresultaten. Het systeem kan worden gebruikt in zuiverruimtes van klasse 1–100, zonder dat er partikels worden gegenereerd. De uptime is 24/7, met een betrouwbaarheidsniveau dat overeenkomt met de verwachtingen voor halfgeleiderapparatuur.
Waarom dit systeem werkt in de lithografie is eenvoudig: de herhaalbaarheid van het bakproces bepaalt de kwaliteit van de chip. Met gezoneerd verwarming wordt de variabiliteit in de temperatuur verminderd, zodat de resultaten consistent blijven, ongeacht of het om verschillende batches, chips of productiesessies gaat. Dit leidt tot minder herwerkingen en minder afval. Ook het energieverbruik neemt af, omdat het systeem alleen de gewenste gebieden verwarmt en de warmteoverdracht naar aangrenzende onderdelen tot een minimum wordt beperkt.
Voor de installatie is een schone, vlakke ondergrond nodig, plus voldoende ruimte voor de IR-emitters. Er zijn ook aanpassingskits beschikbaar voor standaardrails, maar de mechanische specificaties verschillen per platform. Om de gewenste uniformiteit van ±0,1°C te bereiken, moet het systeem worden gekalibreerd op het thermische profiel van de resist. Wij bieden hiervoor een traceerbaar proces. Eenmaal ingesteld, blijft het proces stabiel. Echter, als je de chemische samenstelling van de resist verandert, moet het systeem opnieuw worden gekalibreerd.