Op de lithografieafdeling weet je hoe het gaat: een lichte verhitting kan al tot problemen leiden, waardoor de controle over de cruciale dimensies verslechtert. Er ontstaan ongewenste effecten, en niemand heeft tijd voor zulke problemen. Ondertussen blijven de wafers zich ophopen, waardoor er veel energie wordt verbruikt. We hebben onze lampen zo ontworpen dat ze dit soort problemen voorkomen.
Wat technisch gezien belangrijk is:
We gebruiken halogeenkwartslampen met NIR-uitzending, zodat de energie rechtstreeks in de photoresist terechtkomt. Hierdoor kan de temperatuur snel worden geregeld, is er nauwkeurige controle over de energieverbruik en blijft de uniformiteit van de wafers binnen ±0,1°C over een oppervlak van 300 mm. Het systeem werkt in schone ruimtes van klasse 1–100, zonder dat er stofdeeltjes vrijkomen – dankzij continu monitoren en een afgesloten ontwerp met minimale gasontwikkeling. De herhaalbaarheid blijft constant, ongeacht of het om verschillende batches of lampen gaat. In productielijnen met hoge productieraten kan het systeem 24/7 draaien, zonder onvoorziene stilstand.
Waarom dit werkt, is simpel: de nauwkeurigheid van de temperatuur bepaalt de eigenschappen van de photoresist, de hechting en de selectiviteit tijdens het etenproces. De lampen verminderen de benodigde verhittingsduur, waardoor er minder defecten ontstaan en de lijnbreedte stabiel blijft. Het energieverbruik neemt af, omdat de warmte alleen waar nodig wordt gebruikt – in de photoresist – en niet om de kamer op te warmen. Ook de onderhoudsintervallen wordenlanger, omdat het ontwerp van de lampen hotspots en de bijbehorende thermische belastingen voorkomt. Het resultaat is een hogere opbrengst, minder herwerkingen en een betrouwbare cyclusduur.
Hier zijn nog een paar punten die je in gedachten moet houden: deze lampen hebben zuiver, droog luchtafvoer of stikstof nodig, zodat de kwartsstructuur vrij blijft van condensvorming en de spectrale stabiliteit behouden blijft. Ze kunnen worden geïntegreerd in standaard OEM-opstellingen, maar de integratie moet goed aansluiten bij de specifieke thermische eigenschappen van de apparatuur. Plan tijd in voor een snelle aanpassing van de verhittingsduur tijdens de kalibratie – genoeg om de gewenste uniformiteit te bereiken.