Cara yang Lebih Baik untuk Mengeringkan Wafer Sensor MEMS
Jika anda pernah berurusan dengan wafer sensor MEMS, pasti anda tahu betapa sukarnya proses ini. Anda perlu menghilangkan air dari wafer tersebut secepat mungkin—tetapi pada masa yang sama, anda tidak boleh membiarkan adanya kesan air atau tekanan haba yang boleh merosakkan wafer tersebut.
Selama ini, kaedah yang digunakan ialah menggunakan ketuhar konveksi. Namun, sebenarnya kaedah ini membuang-buang tenaga. Anda perlu memanaskan seluruh ruang dalam ketuhar hanya untuk mengeringkan beberapa wafer sahaja. Prosesnya lambat, mahal, dan tidak sesuai dengan prinsip “kilang hijau” yang kita kejar sekarang.
Oleh itu, kami beralih kepada penggunaan lampu inframerah gelombang pendek. Daripada memanaskan udara, lampu ini akan memanaskan permukaan wafer secara langsung.
Mengapa Fizik Penting dalam Proses Ini
Kami menggunakan sistem inframerah dengan kekuatan tinggi agar proses pengeringan berlaku dengan cepat. Radiasi inframerah akan masuk terus ke molekul air yang ada pada permukaan wafer. Ia tidak akan tertahan di udara atau meresap ke dalam struktur mesin.
Cara ini efisien dan bersih. Selain itu, ia juga mempercepatkan proses pengeringan wafer.
Butiran Teknikal Mengenai Peralatan
Kami menggunakan tiub kuarsa yang berkualiti tinggi untuk lampu tersebut. Dalam kilang semikonduktor, sebarang bentuk kotoran merupakan masalah besar. Oleh itu, kami tidak mengambil risiko menggunakan bahan yang kurang berkualiti.
Tergantung pada saiz wafer dan profil haba yang diperlukan, kami boleh menyesuaikan lapisan pada lampu tersebut. Ini membantu memastikan haba dapat sampai ke struktur MEMS tanpa merosakkan bahagian tepi wafer.
Mengenai Sambungan Elektrik
Kami menggunakan sambungan industri standard. Sambungan ini kukuh dan tidak akan longgar walaupun mesin beroperasi dengan intensiti tinggi.
Perhatian Jika Anda Ingin Menggantikan Lampu Lama Dengan Yang Baru
Pastikan voltan yang digunakan sesuai. Lampu inframerah memerlukan arus yang tinggi. Jika bekalan kuasa tidak cukup kuat, ia boleh menyebabkan litar terputus.
Keseimbangan Antara Kecepatan dan Intensitas Haba
Walaupun kaedah pengeringan menggunakan inframerah sangat cepat, intensitas habanya sangat tinggi. Anda perlu mencari keseimbangan antara suhu lampu dan kelajuan pergerakan wafer. Jika konveyor bergerak lambat, ia boleh merosakkan membran sensor yang halus tersebut.
Untuk mengelakkan pembaziran wafer, kami menyarankan penggunaan alat pengukur suhu secara masa nyata. Alat ini membolehkan anda menyesuaikan kuasa lampu secara dinamik, sehingga anda boleh yakin bahawa wafer tersebut selamat.