Di lantai produksi, peningkatan suhu sebesar 2°C saja sudah cukup untuk mengubah profil fotorezistan yang digunakan. Suhu yang terlalu tinggi di bagian tepi dapat menyebabkan munculnya endapan pada permukaan fotorezistan. Pengering inframerah yang kompak untuk proses IC bukanlah hal yang opsional—melainkan elemen penting dalam proses produksi. Kami merancang alat ini agar dapat menjaga konsistensi suhu dalam proses litografi dan pengerjaan wafer, karena dalam bisnis ini, setiap wafer sangat penting.
Yang perlu diperhatikan: Alat ini menggunakan radiator inframerah dekat yang dirancang untuk memberikan pemanasan yang cepat dengan inersia termal yang rendah. Konsistensi suhu di seluruh permukaan wafer tetap berada dalam rentang ±0,1°C, sedangkan konsistensi titik pengaturan suhu berada dalam rentang ±0,5°C. Dengan demikian, profil pemanasan fotorezistan akan tetap konsisten dari satu batch ke batch lainnya. Alat ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100, dengan jalur udara yang bebas dari partikel, sehingga tidak ada emisi partikel sama sekali. Alat ini dirancang untuk beroperasi 24/7, dengan masa pakai lebih dari 20.000 jam, tanpa adanya gangguan operasional. Ukuran alat ini cukup kompak: 300 mm × 200 mm × 150 mm. Alat ini dapat beroperasi menggunakan tegangan 24 VDC atau 48 VDC, serta memiliki konektor standar yang mudah dipasang ke sistem yang sudah ada.
Mengapa alat ini efektif? Anda membutuhkan panas yang dapat bereaksi dengan cepat, tanpa terjadi peningkatan suhu yang berlebihan. Radiator inframerah dekat memberikan pemanasan yang cepat, dengan kontrol yang akurat, sehingga waktu pemanasan berkurang dan kapasitas produksi meningkat. Penggunaan energi juga berkurang, karena radiator langsung menghangatkan wafer dan substratnya, bukan dinding ruangan. Dalam proses fotorezistan, hal ini berarti kontrol dimensi kritis yang lebih baik dan pengurangan jumlah pekerjaan ulang. Dalam proses pengemasan, alat ini dapat mengeringkan cairan yang menempel pada wafer dan menghilangkan kelembapan tanpa menyebabkan deformasi pada wafer. Kemampuan alat ini untuk beroperasi di ruang bersih membuat jumlah partikel tetap rendah—sesuai dengan kebutuhan proses manufaktur modern.
Beberapa catatan praktis: Alat ini membutuhkan sumber daya listrik yang stabil dan bersih, serta jalur udara yang kering agar jendela optik tetap bersih. Waktu pemanasan awal singkat, tetapi proses pemanasan sebaiknya dimulai setelah 10 menit stabilisasi. Meskipun ukurannya kompak, masih diperlukan ruang kosong di sekitar area radiator untuk keperluan keselamatan dan sistem ventilasi. Pastikan spektrum radiasi sesuai dengan jenis fotorezistan dan substrat yang digunakan. Tim kami dapat membantu menyesuaikan proses produksi sesuai dengan kebutuhan Anda.