Sur la ligne de production de 300 mm, le séchoir n’est pas un accessoire optionnel : c’est plutôt le dernier étape de traitement thermique avant que les wafers ne sortent de l’usine. Quelques degrés d’inhomégenité pendant le séchage du photorésistant, ou encore des particules émises par une lampe vieillissante, suffisent pour que le processus de lithographie devienne inefficace. Nous avons conçu notre lampe de séchage en tenant compte d’un critère essentiel : maintenir la température du wafer à ±0,1 °C, sans introduire de contamination.
Ce qui est important au niveau technique Nous utilisons un émetteur infrarouge à ondes courtes, permettant un chauffage rapide et localisé. Ainsi, la température atteint rapidement la valeur désirée, sans retard. Une fenêtre en quartz optimisée pour les wafers de 300 mm, ainsi qu’une géométrie de réflecteurs adaptée, assurent une distribution uniforme de la chaleur sur tout le surface du wafer, ce qui évite les variations de température entre les bords et le centre du wafer. Le système est compatible avec des environnements propres, utilisant des matériaux et des joints de classe 1–100. De plus, il est conçu pour fonctionner sans produire de particules. Un contrôle en boucle fermée garantit une reproduction fiable des résultats, de sorte que chaque wafer reçoit toujours la même quantité d’énergie, quelle que soit la période de travail.
Pourquoi c’est important dans le traitement du photorésistant Les températures de séchage influencent directement l’élimination des solvants, la tension de la couche de photorésistant, et donc le contrôle des dimensions critiques du wafer. Cette lampe permet de maintenir une température constante pendant le séchage, ce qui réduit le nombre de retouches nécessaires et améliore le taux de réussite du processus. La réponse rapide de la lampe permet de réduire le temps de traitement, sans excès de chaleur. Enfin, sa faible masse thermique permet de limiter la consommation d’énergie. Vous obtenez donc des résultats constants, avec moins d’alarmes, moins de maintenance et moins de déchets.
À prendre en compte lors de l’installation Cette lampe est conçue pour être utilisée avec des wafers de 300 mm et pour être intégrée dans des environnements propres. Cependant, l’interface mécanique ainsi que les systèmes d’alimentation en électricité, de refroidissement et d’évacuation doivent être correctement configurés lors de l’installation. La stabilité du système dépend d’une alimentation électrique stable et d’une température de l’eau de refroidissement constante. Il est donc nécessaire de vérifier la stabilité du système sous charge maximale. Prévoyez un jour entier pour l’intégration du système, puis calibrez-le une fois selon vos besoins de production.